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一种辅助初筛配对电光晶体静态消光比的工装 

申请/专利权人:青岛海泰光电技术有限公司

申请日:2023-12-06

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN221280628U

主分类号:G01M11/02

分类号:G01M11/02

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权

摘要:本实用新型提供一种辅助初筛配对电光晶体静态消光比的工装。沿基座主体的宽度方向,基座主体包括第一侧端面和第二侧端面,沿第一侧端面向第二侧端面的方向设置有基座贯通孔,沿基座主体厚度方向,基座主体包括上端面,基座上端面形成第一晶体槽;调节座包括调节座主体,沿调节座主体宽度方向第一侧端面向第二侧端面的方向设置有调节座贯通孔,沿调节座主体厚度方向,调节座主体包括上端面,调节座上端面形成第二晶体槽;固定调节件:穿过所述基座调节孔,及,所述贯通座调节孔,固定所述基座和所述调节座。本装置通过基座和调节座的配合,可以在装成成品开关之前先对两块配对晶体的性能进行测试,简化了开关消光比的测试方法和测试流程。

主权项:1.一种辅助初筛配对电光晶体静态消光比的工装,其特征在于,包括:基座:包括基座主体,沿基座主体的宽度方向,所述基座主体包括第一侧端面和第二侧端面,沿第一侧端面向第二侧端面的方向设置有基座贯通孔,沿基座主体厚度方向,所述基座主体包括上端面,基座上端面形成第一晶体槽;调节座:包括调节座主体,沿调节座主体的宽度方向,所述调节座主体包括第一侧端面和第二侧端面,沿第一侧端面向第二侧端面的方向设置有调节座贯通孔,沿调节座主体厚度方向,所述调节座主体包括上端面,调节座上端面形成第二晶体槽;固定调节件:穿过所述基座调节孔,及贯通座调节孔,固定所述基座和所述调节座,且,所述基座和所述调节座被固定后,第一晶体槽和第二晶体槽的朝向相同,且位于同一高度。

全文数据:

权利要求:

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