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申请/专利权人：河南天璇半导体科技有限责任公司
申请日：2023-11-06
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN221275884U
主分类号：C23C16/458
分类号：C23C16/458;C23C16/46
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.07.05#授权
摘要：本实用新型提供了一种微波等离子体设备用基片台，属于微波等离子体设备领域。该微波等离子体设备用基片台包括台体，台体内设置有供冷却介质流动的流道，台体上还设置有与流道连通的流道入口和流道出口，流道包括至少一个注入流道和至少一个回收流道，注入流道和回收流道均呈螺旋状且交替嵌套布置，台体的边缘处设置有连通回收流道和注入流道的连接流道，流道入口和流道出口均位于台体的中心处且分别与注入流道和回收流道连通。本实用新型通过设置螺旋状的流道，保证无冷却介质的流动死角，并且冷却介质先从台体中心流到边缘，然后又从边缘返回中心，能够保证台体的冷却均匀性好。
主权项：1.一种微波等离子体设备用基片台，包括台体，台体内设置有供冷却介质流动的流道，台体上还设置有与流道连通的流道入口和流道出口，其特征是，流道包括供冷却介质由台体的中心向边缘流动的至少一个注入流道和供冷却介质由台体的边缘向中心流动的至少一个回收流道，注入流道和回收流道均呈螺旋状且交替嵌套布置，台体的边缘处设置有连通回收流道和注入流道的连接流道，流道入口和流道出口均位于台体的中心处且分别与注入流道和回收流道连通。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 河南天璇半导体科技有限责任公司 一种微波等离子体设备用基片台
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