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基片处理装置和基片处理方法 

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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:本发明提供一种基片处理装置,其包括:将保持基片的旋转台旋转驱动的机构;电加热器,其以与旋转台一起旋转的方式设置于旋转台,对载置于旋转台上的基片进行加热;受电电极,其以与旋转台一起旋转的方式设置于旋转台,且与电加热器电连接;供电电极,其通过与受电电极接触,来经由受电电极对电加热器供给驱动电功率;电极移动机构,其能够使供电电极与受电电极相对地接触和分离;对供电电极供给驱动电功率的供电部;包围旋转台的周围的处理杯状体;对基片供给处理液的至少1个处理液喷嘴;作为处理液至少将非电解镀覆液供给至处理液喷嘴的处理液供给机构;和控制电极移动机构、供电部、旋转驱动机构和处理液供给机构的控制部。

主权项:1.一种基片处理装置,其特征在于,包括:能够将基片以水平姿态保持的旋转台;使所述旋转台绕铅直轴线旋转的旋转驱动机构;电加热器,其以与所述旋转台一起旋转的方式设置于所述旋转台,对载置于所述旋转台上的所述基片进行加热;受电电极,其以与所述旋转台一起旋转的方式设置于所述旋转台,且与所述电加热器电连接;供电电极,其通过与所述受电电极接触,来经由所述受电电极对所述电加热器供给驱动电功率;电极移动机构,其能够使所述供电电极与所述受电电极相对地接触和分离;对所述供电电极供给所述驱动电功率的供电部;包围所述旋转台的周围且与排气配管和排液配管连接的处理杯状体;对所述基片供给处理液的至少1个处理液喷嘴;作为所述处理液至少将非电解镀覆液供给至所述处理液喷嘴的处理液供给机构;和控制所述电极移动机构、所述供电部、所述旋转驱动机构和所述处理液供给机构的控制部,连接所述供电电极与所述供电部的导电通路至少部分地由可挠性的电线形成,通过所述可挠性的电线构成为能够在保持所述受电电极与所述供电电极相接触的状态下使所述旋转台在规定的角度范围内旋转。

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权利要求:

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