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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明的基片支承器包括：用于支承基片和边缘环的静电吸盘；和支承上述静电吸盘的基座，上述静电吸盘包括：第一区域，其构成为具有第一上表面，能够支承载置在第一上表面之上的基片；第二区域，其构成为具有第二上表面，设置于上述第一区域的周围，能够支承载置在上述第二上表面之上的边缘环；第一电极，其设置于上述第一区域，能够被施加直流电压；第二电极，其设置于上述第一电极的下部，能够被供给第一偏置功率；第三电极，其设置于上述第二电极的下部，能够被供给上述第一偏置功率；和第一气体供给路径，其配置于上述第二电极与上述第三电极之间，上述基片支承器还具有第一功率供给路径，上述第一功率供给路径与上述第二电极和上述第三电极电接触，用于供给上述第一偏置功率。
主权项：1.一种基片支承器，其特征在于，包括：用于支承基片和边缘环的静电吸盘；和支承所述静电吸盘的基座，所述静电吸盘包括：第一区域，其构成为具有第一上表面，能够支承载置在所述第一上表面之上的基片；第二区域，其构成为具有第二上表面，设置于所述第一区域的周围，能够支承载置在所述第二上表面之上的边缘环；第一电极，其设置于所述第一区域，能够被施加直流电压；第二电极，其设置于所述第一电极的下部，能够被供给第一偏置功率；第三电极，其设置于所述第二电极的下部，能够被供给所述第一偏置功率；和第一气体供给路径，其配置于所述第二电极与所述第三电极之间，所述基片支承器还具有第一功率供给路径，所述第一功率供给路径与所述第二电极和所述第三电极电接触，用于供给所述第一偏置功率。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片支承器和等离子体处理装置
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