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一种基片清洁装置 

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申请/专利权人:福建睿创光电科技有限公司

摘要:本实用新型公开了一种基片清洁装置,包括清洗台,清洗台顶部分隔有第一清洁池、第二清洁池以及冲洗池;还包括承载器,承载器包括连接部以及用于放置基片的承载框,冲洗池位于第一清洁池与第二清洁池的外部均设有升降机构,升降机构用于连接连接部、且驱动连接部上下移动,本实用新型通过升降机构带动放置基片的承载框上下移动进行清洗、浸泡与取出动作,操作简单,避免在移动基片过程中划伤和污染基片。

主权项:1.一种基片清洁装置,其特征在于:包括清洗台(1),所述清洗台(1)顶部分隔有第一清洁池(2)、第二清洁池(3)以及冲洗池(4);还包括承载器(6),承载器(6)包括连接部(61)以及用于放置基片的承载框(62),所述冲洗池(4)位于第一清洁池(2)与第二清洁池(3)的外部均设有升降机构,所述升降机构用于连接连接部(61)、且驱动连接部(61)上下移动。

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权利要求:

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