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申请/专利权人：江苏芯梦半导体设备有限公司
申请日：2024-06-04
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118299307A
主分类号：H01L21/673
分类号：H01L21/673;H01L21/67;H01L21/02;B08B7/00
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本申请实施例涉及一种用于放置超临界处理用基板的容器、基于超临界流体的基板处理装置及基板处理方法。其中，用于放置超临界处理用基板的容器用于在超临界处理装置超临界干燥和转移所述基板的过程中存放基板，容器内部具有放置基板的内腔，在转移和超临界干燥基板过程中，基板放置于内腔以使得基板与容器外部环境相隔离；容器设有供超临界流体出入内腔的流道。本申请实施例所提供的用于放置超临界处理用基板的容器及基于超临界流体的基板处理装置能够避免基板直接暴露在高压处理空间内，进一步避免在腔室打开和关闭过程中产生的颗粒对基板造成二次污染，保证基板表面洁净度。
主权项：1.一种用于放置超临界处理用基板的容器，其特征在于，所述容器用于在超临界处理装置超临界干燥和转移所述基板的过程中存放所述基板，所述容器内部具有放置所述基板的内腔，在转移和超临界干燥所述基板过程中，所述基板放置于所述内腔，以使得所述基板与所述容器外部环境相隔离；所述容器设有供超临界流体出入所述内腔的流道。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏芯梦半导体设备有限公司 用于放置超临界处理用基板的容器、基板处理装置及处理方法
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