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真空三极管、电子器件及电子设备 

申请/专利权人:华为技术有限公司

申请日:2022-12-26

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118263072A

主分类号:H01J21/20

分类号:H01J21/20;H01J19/74

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本申请提供一种真空三极管、电子器件及电子设备,提供一种采用表面隧穿电子源即发射体的片上微型真空三极管。该真空三极管包括衬底以及设置在衬底上的第一驱动电极、第二驱动电极、第一绝缘层、栅极。第一驱动电极与第二驱动电极分布在衬底上、且第一驱动电极与第二驱动电极之间具有第一间隙;第一绝缘层在位于第一间隙的所在区域、且在靠近收集电极的表面具有表面隧穿电子源,表面隧穿电子源与第一驱动电极、第二驱动电极均电连接;栅极位于第一绝缘层远离收集电极的一侧。该真空三极管还包括收集电极,收集电极设置在第一绝缘层远离衬底的一侧,收集电极与表面隧穿电子源相对设置,且收集电极与表面隧穿电子源之间具有第二间隙。

主权项:1.一种真空三极管,其特征在于,包括:衬底;第一驱动电极和第二驱动电极,所述第一驱动电极与所述第二驱动电极分布在所述衬底上,且所述第一驱动电极与所述第二驱动电极之间具有第一间隙;第一绝缘层,所述第一绝缘层设置在所述衬底上,所述第一绝缘层在位于所述第一间隙的所在区域、且靠近所述收集电极的表面具有表面隧穿电子源;所述表面隧穿电子源与所述第一驱动电极、所述第二驱动电极均电连接;栅极,所述栅极位于所述第一绝缘层远离所述表面隧穿电子源的一侧;收集电极,所述收集电极设置在所述第一绝缘层远离所述衬底的一侧;所述收集电极与所述表面隧穿电子源相对设置,且所述收集电极与所述表面隧穿电子源之间具有第二间隙。

全文数据:

权利要求:

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