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申请/专利权人：宁波南大光电材料有限公司
申请日：2024-01-22
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118047750A
主分类号：C07D333/76
分类号：C07D333/76;C07C303/32;C07C309/06;G03F7/004
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.11#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：本发明公开了一种ArF光敏剂及其制备方法和ArF光刻胶组合物，属于光刻胶技术领域。本发明的ArF光敏剂，结构式如式II所示。所述的ArF光敏剂的制备方法，包括以下步骤：1将二苯并噻吩亚砜溶于第一溶剂中，搅拌后加入阴离子添加剂，冷却至‑80～‑40℃；2缓慢滴加活化剂，控温为‑80～‑40℃，滴加完毕升温后，搅拌再淬灭；3洗涤后脱溶，加入叔丁基甲醚，打浆后获得ArF光敏剂。一种ArF光刻胶组合物，包含上述的ArF光敏剂。本发明获得的ArF光敏剂，在线边界粗糙度、光刻胶的溶剂中溶解性、耐热性及运输问题及成本方面等方面均具有优异效果。
主权项：1.一种ArF光敏剂，其特征在于：结构式如式II所示，
全文数据：
权利要求：
百度查询： 宁波南大光电材料有限公司 一种ArF光敏剂及其制备方法和ArF光刻胶组合物
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