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光检测装置 

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申请/专利权人:奥特逻科公司

摘要:本发明提供一种光检测装置,该光检测装置包括半导体衬底。第一锗基光吸收材料由半导体衬底支撑并且被配置成吸收具有大于800nm的第一波长的第一光信号。第一金属线被电耦合到第一锗基光吸收材料的第一区。第二金属线被电耦合到第一锗基光吸收材料的第二区。第一区是未掺杂的或被掺杂有第一类型的掺杂剂。第二区被掺杂有第二类型的掺杂剂。第一金属线被配置成控制在第一锗基光吸收材料内部产生以由第二区收集的第一类型的光生载流子的量。

主权项:1.一种光检测装置,包括:半导体衬底;第一锗基光吸收材料,所述第一锗基光吸收材料由所述半导体衬底支撑并且被配置成吸收具有大于800nm的第一波长的第一光信号;第一金属线,所述第一金属线被电耦合到所述第一锗基光吸收材料的第一区;以及第二金属线,所述第二金属线被电耦合到所述第一锗基光吸收材料的第二区,第三金属线,所述第三金属线被耦合到所述第一锗基光吸收材料的第三区;以及第四金属线,所述第四金属线被耦合到所述第一锗基光吸收材料的第四区;以及钝化层,所述钝化层被形成在所述第一锗基光吸收材料的第一表面上,其中,所述第一区是被掺杂有第一类型的掺杂剂,所述第二区被掺杂有第二类型的掺杂剂,并且所述第一金属线被配置成控制在所述第一锗基光吸收材料内部产生以由所述第二区收集的第一类型的光生载流子的量;其中,所述第三区是被掺杂有所述第一类型的掺杂剂,并且所述第四区被掺杂有所述第二类型的掺杂剂,以及其中,所述第三金属线被配置成控制在所述第一锗基光吸收材料内部产生以由所述第四区收集的第一类型的光生载流子的量;其中,从所述第一锗基光吸收材料的所述第一表面延伸的所述第一区的深度大于从所述第一锗基光吸收材料的所述第一表面延伸的所述第二区的深度;其中,所述第一区或所述第三区的所述第一类型的掺杂剂的掺杂浓度低于所述第二区或所述第四区的第二类型的掺杂剂的掺杂浓度。

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