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申请/专利权人：上海艾深斯科技有限公司
摘要：本发明涉及一种光刻胶组合物，包括如下组分：聚合物树脂10‑30份，有机溶剂50‑80份，光敏剂2‑5份，添加剂1‑3份；该组合物延长了光刻胶的保质期，并具有胶体均耐刻蚀的特性。
主权项：1.一种可延长ArF光刻胶保存期的添加剂，其特征在于包括式I化合物， 式I以及单环氧丁烯。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海艾深斯科技有限公司 一种延长Arf光刻胶保质期的添加剂、光刻胶组合物及其制备方法
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