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摘要：本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种用于掩模对准光刻设备的照明系统及方法。所述方法包括以下步骤：对掩模对准光刻设备进行照明光源阵列设计和光束强度均匀化处理，得到光刻设备照明光源光束均匀化阵列；对掩模对准光刻设备进行照明区域第一照度监测，得到光刻设备照明区域均匀光照强度；对掩模对准光刻设备内照明单元的掩模对准过程进行照明区域第二照度监测，得到光刻设备照明区域动态光照强度；对掩模对准光刻设备内照明单元的掩模对准过程进行照明位置及角度灵敏调整分析，并对光刻设备照明区域均匀光照强度以及光刻设备照明区域动态光照强度进行照度配准处理，得到光刻设备照明区域照度配准结果。本发明能够实现高效率的掩模对准操作。
主权项：1.一种用于掩模对准光刻设备的照明方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：对掩模对准光刻设备进行照明光源阵列设计，以得到掩模对准光刻设备照明光源阵列；对掩模对准光刻设备照明光源阵列进行光束强度均匀化处理，得到光刻设备照明光源光束均匀化阵列；步骤S2：基于光刻设备照明光源光束均匀化阵列对掩模对准光刻设备进行照明区域第一照度监测，以得到光刻设备照明区域均匀光照强度；步骤S3：通过分光镜对掩模对准光刻设备内照明单元的掩模对准过程进行多波长照明分离处理，以生成不同的光刻设备对准目标照明光源波长光路；根据不同的光刻设备对准目标照明光源波长光路对掩模对准光刻设备内照明单元的掩模对准过程进行照明区域第二照度监测，得到光刻设备照明区域动态光照强度；步骤S4：基于不同的光刻设备对准目标照明光源波长光路对掩模对准光刻设备内照明单元的掩模对准过程进行照明位置及角度灵敏调整分析，以得到光刻设备对准过程照明位置灵敏调整值以及光刻设备对准过程照明角度灵敏调整值；根据光刻设备对准过程照明位置灵敏调整值以及光刻设备对准过程照明角度灵敏调整值对光刻设备照明区域均匀光照强度以及光刻设备照明区域动态光照强度进行照度配准处理，以得到光刻设备照明区域照度配准结果。
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百度查询： 无锡旭电科技有限公司 一种用于掩模对准光刻设备的照明系统及方法
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