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摘要：本发明公开了石墨基碳化硅涂层分子镶嵌法，涉及硅晶圆制造热场及半导体衬底外延过程中易耗品的制造领域，其中，包括以下步骤：a、利用精密机械加工技术按用户要求的尺寸及形状加工好石墨基盘或其他石墨几何体，并保持石墨基盘或其他石墨几何体表面高净洁；b将步骤a中加工好的石墨基盘放进化学气相沉积炉里，给化学气相沉积炉送电升温；本发明基于硅与碳在高温条件下反应生成碳化硅的化学原理，将碳化硅分子嵌入石墨盘的基体内，从而使碳化涂层与石墨基盘形成一体，在急速加热和急速冷却时能使碳化硅涂层与石墨基盘保持同时膨胀或收缩，这样就能使两者的变化尺度保持一致，从而保证了碳化硅涂层不脱落。
主权项：1.石墨基碳化硅涂层分子镶嵌法，其特征在于，包括以下步骤：a、利用精密机械加工技术按用户要求的尺寸及形状加工好石墨基盘或其他石墨几何体，并保持石墨基盘或其他石墨几何体表面高净洁；b、将步骤a中加工好的石墨基盘放进化学气相沉积炉里，给化学气相沉积炉送电升温；c、当化学气相沉积炉的温度升到1050度以上时，将混合了氩气或其他惰性保护气体的工艺原料气体送入化学气相沉积炉内，同时也把还原气体送入化学气相沉积炉内，同时控制单质硅沉积的速率符合化学气相沉积炉的沉积要求；d、当沉积在石墨基盘上的单质硅与石墨基盘中的碳元素反应生成的碳化硅的厚度满足要求时停止还原沉积，同时关掉加热电源及各种工艺原料气体；e、当化学气相沉积炉内的温度降到常温时产品出炉、产品检测包装。
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百度查询： 巨野县华新建材有限公司 石墨基碳化硅涂层分子镶嵌法
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