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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：描述了用于处理腔室的处理配件和具有下屏蔽件与下屏蔽环的处理腔室。下屏蔽件具有环形主体，所述环形主体具有内壁与外壁、顶壁与底壁，其中外凸耳壁从外壁的下部向外延伸到外凸耳外壁。下屏蔽环具有倾斜的下内壁，所述倾斜的下内壁具有顶面，所述顶面与上内壁的底面间隔开一距离，使得所述距离从下内壁往外壁的内表面减小。至少一个上开口延伸穿过下屏蔽环的顶部，并且至少一个开口延伸穿过下屏蔽环的下部。还描述了被配置成与下屏蔽件和下屏蔽环协作地交互的上屏蔽件。
主权项：1.一种用于处理腔室的处理配件，所述处理配件包括：下屏蔽件，所述下屏蔽件具有环形主体，所述环形主体具有内壁与外壁，所述内壁与所述外壁限定下屏蔽件壁厚度，顶壁与底壁限定下屏蔽件高度，外凸耳壁从所述外壁的下部向外延伸到外凸耳外壁；以及下屏蔽环，所述下屏蔽环具有环形主体，所述环形主体具有外壁与上内壁，所述外壁与所述上内壁限定下屏蔽环壁厚度，所述上内壁的顶面与底面限定下屏蔽环上高度，倾斜的下内壁具有顶面与底面，所述倾斜的下内壁的所述顶面与所述上内壁的所述底面间隔开一距离，使得所述距离从下内壁往所述外壁的内表面减小，至少一个上开口从所述下屏蔽环的所述顶面延伸至所述上内壁底面，以及至少一个下开口从所述倾斜的下内壁的所述顶面延伸至所述倾斜的下内壁的所述底面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于先进封装的处理腔室和处理配件
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