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申请/专利权人：中微半导体设备(上海)股份有限公司
摘要：本申请提供一种静电吸盘，包括底座和和底座上设置的圆盘结构，圆盘结构的上表面用于固定晶圆。其中，底座中形成有第一通孔，第一通孔中形成有分流部件，分流部件将第一通孔分为多个子通孔，分流部件和第一通孔的侧壁之间形成有填充层；圆盘结构中形成有轴向贯穿圆盘结构的第二通孔，第一通孔的尺径大于第二通孔的尺径，第一通孔和第二通孔连通。冷却气体可以通过第一通孔中的多个子通孔流向第二通孔，从而与圆盘结构上固定的晶圆接触来调节晶圆温度，而填充层可以填充分流部件和底座之间的侧壁间隙，减小了冷却气体的放电空间，降低了冷却气体被击穿的可能性，提高静电吸盘的使用寿命。
主权项：1.一种静电吸盘，其特征在于，包括：底座，所述底座中形成有第一通孔，所述第一通孔中形成有分流部件，所述分流部件将所述第一通孔分为多个子通孔；所述分流部件和所述第一通孔的侧壁之间形成有填充层，所述填充层的材料为环氧树脂，硅树脂中的至少一种；所述填充层填满侧壁间隙；所述底座为金属材质；在所述底座上设置的圆盘结构，所述圆盘结构的上表面用于固定晶圆；所述圆盘结构中形成有轴向贯穿所述圆盘结构的第二通孔，所述第二通孔和所述第一通孔连通；所述圆盘结构与所述底座通过粘合层粘接，所述分流部件和所述填充层之间形成有隔离层，所述隔离层形成于所述分流部件的侧壁上，且为有机绝缘材料，所述隔离层的材料为聚酰亚胺粘性胶带；所述隔离层完全覆盖所述分流部件的侧壁；所述第二通孔包括多个子通孔。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中微半导体设备(上海)股份有限公司 一种静电吸盘及其制造方法、等离子体处理装置
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