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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：一种清洗溶液制作系统用于清洗半导体基板。该系统包括：压力罐；等离子体反应罐，被配置为在悬浮在从压力罐获得的减压液体中的气泡中形成等离子体，从而在减压液体中产生自由基物种；存储罐，被配置为存储含有在等离子体反应罐中产生的自由基物种的清洗溶液；以及喷嘴，被配置为将清洗溶液从存储罐供应到半导体基板。
主权项：1.一种用于清洗半导体基板的清洗溶液制作系统，包括：压力罐；等离子体反应罐，被配置为在悬浮在从所述压力罐获得的减压液体中的气泡中形成等离子体，从而在所述减压液体中产生自由基物种，其中，所述等离子体反应罐包括位于所述等离子体反应罐的相对侧的第一电极和第二电极；点火电极，位于所述第一电极和第二电极下方并且径向地位于所述第一电极和第二电极之间；存储罐，被配置为存储含有在所述等离子体反应罐中产生的所述自由基物种的清洗溶液；以及喷嘴，被配置为将所述清洗溶液从所述存储罐供应到半导体基板。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 清洗溶液制作系统和方法以及等离子体反应罐
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