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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
摘要:本发明提供一种等离子体处理装置,其包括:处理容器;以及多个气体喷嘴,其从构成上述处理容器的顶壁和或侧壁伸出,具有对上述处理容器内供给气体的气体供给孔,多个上述气体喷嘴具有扩径部,该扩径部在多个上述气体喷嘴的气体供给孔的前端从上述气体供给孔的细孔扩大,在处理空间开口。本发明能够在气体喷嘴防止异常放电。
主权项:1.一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:处理容器;中心微波透射板,其设置于构成所述处理容器的顶壁的中央;外侧微波透射板,其以包围所述中心微波透射板的方式设置于所述顶壁;以及多个气体喷嘴,其从所述顶壁伸出,具有对所述处理容器内供给气体的气体供给孔,多个所述气体喷嘴具有扩径部,该扩径部在多个所述气体喷嘴的气体供给孔的前端从所述气体供给孔的细孔扩大,在处理空间开口,由此,成为在所述处理空间开口的凹坑结构,多个所述气体喷嘴具有与伸出方向垂直的面的形状为椭圆或者流线型的部分,多个所述气体喷嘴的所述椭圆的长轴方向或者所述流线型的顶点方向的直线在所述顶壁的中心点交叉,多个所述气体喷嘴在周向上等间隔地配置在所述外侧微波透射板与所述中心微波透射板之间。
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