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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，能够一边抑制基板上的金属膜被蚀刻，一边选择性地成膜作为保护膜的自组装单分子膜。本发明的基板处理方法对在表面具有形成有金属膜1的金属膜形成区域以及未形成金属膜1的金属膜非形成区域的基板进行处理，包括：溶解氧浓度降低工序，使包括用于形成自组装单分子膜4的材料的处理液的溶解氧浓度降低；以及自组装单分子膜形成工序，通过使溶解氧浓度降低工序后的处理液至少与基板的表面接触，在金属膜形成区域的金属膜1上，一边抑制金属膜1的氧化一边形成自组装单分子膜4。
主权项：1.一种基板处理方法，对在表面具有形成有金属膜的金属膜形成区域以及未形成所述金属膜的金属膜非形成区域的基板进行处理，其中，所述基板处理方法包括：溶解氧浓度降低工序，使包括用于形成自组装单分子膜的材料的处理液的溶解氧浓度降低；以及自组装单分子膜形成工序，通过使溶解氧浓度降低工序后的所述处理液至少与所述基板的表面，在所述金属膜形成区域的所述金属膜上，一边抑制所述金属膜的氧化一边形成所述自组装单分子膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理方法以及基板处理装置
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