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申请/专利权人：泰安东大新材表面技术有限公司;沈阳添和毅科技有限责任公司;泰山科学技术研究院

摘要：本发明涉及磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的控制装置及控制方法，控制装置包括：靶、恒压电源以及设置于靶后方的磁场模块，磁场模块包括永磁铁和控制模块，永磁铁根据控制模块输入的控制参数的不同而改变位置，即改变磁铁距离靶的距离。本发明的阴极靶材刻蚀速率控制方法采用恒压电源提供恒定的阴极放电电压，使放电过程中轰击靶面的离子能量恒定。通过改变永磁铁的位置调节磁场分布，保证轰击靶面的离子流密度相对恒定，增强靶材刻蚀过程中刻蚀速度和镀膜品质的稳定性。

主权项：1.一种磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的控制方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、采用一种磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的控制装置布置磁场结构；所述磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的控制装置结构包括靶模块、恒压电源以及设置于靶模块后方的磁场模块，所述靶模块包括靶材、水冷背板、安装板、外壳体和上盖板；所述磁场模块包括永磁铁和控制模块，控制模块由磁场移动装置构成；所述永磁铁与磁场移动装置设置于外壳体内部；所述外壳体的内部还设置轭铁，所述轭铁的位置由磁场移动装置控制；所述水冷背板固定于安装板上，所述靶材固定于水冷背板上；所述上盖板固定于外壳体上，所述外壳体固定于安装板上；所述水冷背板背面设置有进出水管，自水冷背板的左下角进水、右上角出水；所述外壳体内部还设置圆柱磁铁安装座及接线柱，所述圆柱磁铁安装座以及接线柱底端固定于安装板上，接线柱设置于所述水冷背板的背面，与恒压电源连接；所述永磁铁包括条形磁铁和圆柱磁铁，所述条形磁铁包括外圈条形磁铁和中间条形磁铁，所述条形磁铁全部固定于轭铁上，与轭铁同步移动；所述圆柱磁铁固定于圆柱磁铁安装座内；步骤二、确定输入总功，记录条形磁铁与圆柱磁铁位置Xb、Xc和初始靶电流I0，开始实验；其中，Wa＝W0+UIT，Wa为预期的输入总功，为已知数；W0为初始用功，为已知数；U为恒定电压，I为实时监测的电流，T为刻蚀时间；步骤三、检测当前输入总功是否小于预期的输入总功；如果是，则进行电压和功率恒定的刻蚀实验；如果不是，则结束实验；步骤四、刻蚀实验过程中，检测电流是否在I0±0.5A范围内；如果是，则记录当前Xb、Xc、I和Wa的数据，并返回步骤二；如果不是，调节条形磁铁与圆柱磁铁位置Xb、Xc，而后重新检测电流是否在I0±0.5A范围内。

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