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申请/专利权人：中国人民解放军国防科技大学
摘要：本发明公开了一种计算全息图的基板刻线误差评估方法、系统及介质，本发明方法包括获取针对被测量计算全息图的有效区域上等距分布的n行m列个测点分别采用白光干涉仪检测得到的基板刻线测量数据；计算出刻线深度误差引起的波前畸变误差和图案畸变误差引起的波前畸变误差，并分别根据测点坐标位置进行排列得到大小为n×m的离散矩阵，根据离散矩阵分别生成被测量计算全息图基板的刻线深度误差的误差分布图和图案畸变误差的误差分布图。本发明旨在全面、准确地针对计算全息图有效区域的精度进行量化评估，以此图的结果来评估CGH有效区域制造误差的精度以指导高性能精度的CGH的制造、实现非球面光学元件的高精度零位补偿干涉测量。
主权项：1.一种计算全息图的基板刻线误差评估方法，其特征在于，包括下述步骤：获取针对被测量计算全息图的有效区域上等距分布的n行m列个测点分别采用白光干涉仪检测得到的基板刻线测量数据；针对每一个测点的基板刻线测量数据计算出刻线深度误差引起的波前畸变误差和图案畸变误差引起的波前畸变误差；将各个测点的刻线深度误差引起的波前畸变误差和图案畸变误差引起的波前畸变误差分别根据测点坐标位置进行排列得到大小为n×m的离散矩阵，根据离散矩阵分别生成被测量计算全息图基板的刻线深度误差的误差分布图和图案畸变误差的误差分布图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国人民解放军国防科技大学 一种计算全息图的基板刻线误差评估方法、系统及介质
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