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申请/专利权人：浙江奥首材料科技有限公司
摘要：本发明涉及一种改性氨基硅烷共聚物，氮化硅蚀刻液、制备方法及应用。该共聚物具有三个和Si原子连接的并易于水解的烷氧基团，该基团在酸性条件下能够水解生成Si‑OH键，Si‑OH键能够和二氧化硅层通过范德华力紧密结合从而附着并包裹住二氧化硅层。所述氮化硅蚀刻液组分中包含改性氨基硅烷共聚物、浓磷酸和超纯水。本发明氮化硅蚀刻液对二氧化硅和多晶硅都能保持较高的蚀刻选择比，可应用在3D闪存芯片的氮化硅蚀刻领域。
主权项：1.一种改性氨基硅烷共聚物，其特征在于，所述改性氨基硅烷共聚物由苯乙炔和改性氨基硅烷共聚而成，改性氨基硅烷共聚物的结构式为式3或式4： 其中，R为CmH2m+1，m为1或2，n表示聚合度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江奥首材料科技有限公司 改性氨基硅烷共聚物，氮化硅蚀刻液、制备方法及应用
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