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基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构 

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申请/专利权人:中国启源工程设计研究院有限公司

摘要:本发明涉及废水处理技术,特别是电镀行业的废水处理管理,确切说是基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构,其特征是:包括:空腔球体(6‑2‑3)、球形透镜(6‑2‑4)、四象限光电传感器(6‑2‑6)、振动传感接触面(6‑2‑5)、流体传感控制单元(6‑2‑1)、发光管(6‑2‑2)、第二支撑杆(7)和第一支撑杆(8)构成的下管路流体传感器(6‑2)。它提供基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构,以便能随时了解生产状态和不同时间铬、锌、铜、铅、镍处理水的排放量。

主权项:1.基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构,其特征是:包括:空腔球体(6-2-3)、球形透镜(6-2-4)、四象限光电传感器(6-2-6)、振动传感接触面(6-2-5)、流体传感控制单元(6-2-1)、发光管(6-2-2)、第二支撑杆(7)和第一支撑杆(8)构成的下管路流体传感器(6-2),第二支撑杆(7)和第一支撑杆(8)一端一下一上的连接在上下隔层管架支撑柱(4)上,第一支撑杆(8)的另一端(下端)与空腔球体(6-2-3)顶部连接,第二支撑杆(7)一端支撑在第一支撑杆(8)上,第二支撑杆(7)、第一支撑杆(8)和上下隔层管架支撑柱(4)形成三角结构连接,空腔球体(6-2-3)悬挂在下隔层管架固定的排放管路(1)上;空腔球体(6-2-3)下端的振动传感接触面(6-2-5)与排放管路(1)上的顶部动态接触;空腔球体(6-2-3)上顶部腔体内固定流体传感控制单元(6-2-1),流体传感控制单元(6-2-1)电连接有发光管(6-2-2),发光管(6-2-2)发光头向腔体中心垂直向下发光,空腔球体(6-2-3)的腔体底部有球形透镜(6-2-4),球形透镜(6-2-4)下端有四象限光电传感器(6-2-6),在稳定状态下,发光管(6-2-2)发光头向腔体中心垂直向下发光,通过球形透镜(6-2-4)后投影在四象限光电传感器(6-2-6)上,由四象限光电传感器(6-2-6)获取稳定的信号。

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权利要求:

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