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申请/专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司

摘要：本发明公开了一种纳米压印过程的刻蚀缺陷定位方法，属于图像处理技术领域，本方法通过对等离子刻蚀后的衬底进行图像采集，然后采用对比图像进行颜色值矫正，以消除光照不均匀等外界因素对图像质量的影响，接着分别对矫正图像和对比图像提取出轮廓，计算轮廓图和轮廓对比图上的每个像素点的颜色融合特征值，通过颜色融合特征值体现每个像素点的特征情况，实现将轮廓图与轮廓对比图进行对齐，根据对齐后的轮廓图和轮廓对比图在颜色值和颜色融合特征值上的差值，找到刻蚀缺陷位置，本发明提供的刻蚀缺陷定位方法，不仅提高了检测速度，降低了对操作人员技能的依赖，而且还能实现自动化和批量处理。

主权项：1.一种纳米压印过程的刻蚀缺陷定位方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、采集衬底被等离子刻蚀后的图像，得到初始图像；S2、采用对比图像对初始图像进行颜色值矫正，得到矫正图像；S3、对矫正图像提取轮廓，得到轮廓图，对对比图像提取轮廓，得到轮廓对比图；S4、分别计算轮廓图和轮廓对比图上的每个像素点的颜色融合特征值，并基于颜色融合特征值将轮廓图和轮廓对比图进行平移对齐；S5、根据对齐后的轮廓图和轮廓对比图在颜色值和颜色融合特征值上的差距，找到刻蚀缺陷位置；所述S4包括以下分步骤：S41、分别计算轮廓图和轮廓对比图上每个像素点的颜色融合特征值；S42、从轮廓图上取多个像素点作为目标像素点；S43、取一个目标像素点，计算该目标像素点的颜色融合特征值与轮廓对比图上每个像素点的颜色融合特征值的相似度，得到目标像素点的相似度集合；S44、判断相似度集合中是否存在相似度大于相似阈值，若是，则将最大相似度对应的轮廓对比图上像素点和目标像素点作为一对匹配点，并跳转至步骤S43，直到目标像素点遍历完，若否，丢弃对应目标像素点，并跳转至步骤S43，直到目标像素点遍历完；S45、根据多对匹配点中轮廓对比图上像素点的坐标，将轮廓图进行平移，得到对齐的轮廓图和轮廓对比图；所述S41中颜色融合特征值的计算公式均为：，，，其中，γ为颜色融合特征值，Cj为第j个像素点的颜色值，Cmin为第j个像素点邻域范围内的最小颜色值，Cmax为第j个像素点邻域范围内的最大颜色值，d1为第一距离参数，d2为第二距离参数，xmax为最大颜色值Cmax对应的像素点横坐标，ymax为最大颜色值Cmax对应的像素点纵坐标，xmin为最小颜色值Cmin对应的像素点横坐标，ymin为最小颜色值Cmin对应的像素点纵坐标，j为正整数，xj为第j个像素点的横坐标，yj为第j个像素点的纵坐标；所述S5包括以下分步骤：S51、将对齐后的轮廓图和轮廓对比图按同像素点位置进行颜色值相减，得到颜色差值图，其中，颜色差值图上每个像素点的颜色值为对齐后的轮廓图和轮廓对比图的同像素点位置的颜色值的差值；S52、将对齐后的轮廓图和轮廓对比图按同像素点位置进行颜色融合特征值相减，得到颜色特征差值图，其中，颜色特征差值图上每个像素点的颜色值为对齐后的轮廓图和轮廓对比图的同像素点位置的颜色融合特征值的差值；S53、设置遍历窗口，分别在颜色差值图和颜色特征差值图上遍历；S54、在颜色差值图上，计算每次遍历下第一异常系数；S55、在颜色特征差值图上，计算每次遍历下第二异常系数；S56、在颜色差值图上，提取第一异常系数大于第一异常阈值对应遍历窗口下的像素点，构成第一异常像素点坐标集合；S57、在颜色特征差值图上，提取第二异常系数大于第二异常阈值对应遍历窗口下的像素点，构成第二异常像素点坐标集合；S58、对第一异常像素点坐标集合和第二异常像素点坐标集合取交集，得到刻蚀缺陷位置；所述S54中计算第一异常系数的公式为：，其中，θ1为第一异常系数，cn为颜色差值图的遍历窗口下第n个颜色值，||为取绝对值，n为正整数，e为自然常数，L为遍历窗口下颜色值的数量；所述S55中计算第二异常系数的公式为：，其中，θ2为第二异常系数，cm为颜色特征差值图的遍历窗口下第m个颜色值，||为取绝对值，m为正整数，e为自然常数，L为遍历窗口下颜色值的数量。

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