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感光干膜抗蚀剂、感光干膜及应用 

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申请/专利权人:湖南初源新材料股份有限公司

摘要:本发明公开了一种感光干膜抗蚀剂、感光干膜及应用,其中所述感光干膜抗蚀剂包括以下重量份数的原料:碱溶性树脂45~65份、光聚合单体35~55份、光引发剂0.5~1.2份、增感剂0.035~0.045份。本发明的咔唑基蒽类的化合物结构是非对称结构,9,10位由不同的取代基构成,10位的咔唑基团跟蒽有较好的共轭作用,使得分子在405nm的吸收强度显著增加,能够吸收长波能量,有效固化深层体系,并且咔唑上的氨基与铜配位优异,发生反应形成络合物,增强与铜原子之间的结合力,使干膜抗蚀剂与铜基板的附着力得到提升,从而提高干膜抗蚀剂的抗电镀性。

主权项:1.一种感光干膜抗蚀剂,其特征在于,包括以下重量份数的原料:碱溶性树脂45~65份、光聚合单体35~55份、光引发剂0.5~1.2份、增感剂0.035~0.045份;所述光聚合单体为甲基丙烯酸酯类化合物;所述光引发剂为咔唑基蒽类化合物,结构如式Ⅰ所示: 其中:R为1~18个碳的烷基。

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权利要求:

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