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申请/专利权人:ASMIP私人控股有限公司
摘要:公开了形成包括粘合层的结构的方法和包括粘合层的结构。粘合层可以包括氮。该方法可以包括形成覆盖粘合层并与之接触的金属氧化物抗蚀剂。示例性方法还包括形成光致抗蚀剂底层。
主权项:1.一种形成包括粘合层的结构的方法,该方法包括以下步骤:在反应室内提供包括衬底表面的衬底;和使用覆盖衬底表面的第一循环沉积过程形成粘合层,形成粘合层的步骤包括:向反应室提供硅前体;将惰性气体和含氮反应物气体中的一种或多种提供到反应室中;以及形成等离子体以形成与硅前体或其衍生物反应以形成粘合层的活性物质,其中,粘合层包含硅、氧、碳和氮。
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权利要求:
百度查询: ASMIP私人控股有限公司 包括光致抗蚀剂粘合层的结构及其形成方法
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