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申请/专利权人：恩特格里斯公司;佛罗里达大学研究基金会公司
摘要：本公开涉及一种用于化学机械研磨CMP的浆体，其包括水性液体载剂、含有氧及阴离子的过渡金属化合物或包括过渡金属及氧或氢的多原子阳离子，及过氧化剂。所述含有氧及阴离子的过渡金属化合物的阴离子可包括氧硝酸根、氧氯化物、羟基氧化物、氧乙酸根、氧硫化物或氧硫酸根。所述过氧化剂可为过锰酸盐化合物。
主权项：1.一种用于化学机械研磨CMP的浆体，其包含：水性液体载剂；选自氧硝酸盐、氧氯化物、氧硫酸盐、氧碳酸盐及C2-C10氧链烷酸盐的过渡金属含氧化合物；及过氧化剂，其中所述过氧化剂是选自过锰酸钾及过锰酸钠，所述过氧化剂的浓度是在0.01M到1.0M的范围内变化，其中所述过氧化剂具有在0.0到1.0之间变化的阳离子与阴离子的比率CAR值；还包含0.001到3重量％的磨料氧化物颗粒，其中所述磨料氧化物颗粒包含氧化锆或氧化铝，且具有0.5到4.0的等电点IEP值。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 恩特格里斯公司 佛罗里达大学研究基金会公司 用于研磨硬质材料的CMP组合物
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