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具有提高的速率的CMP抛光垫 

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申请/专利权人:罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

摘要:一种具有抛光部分的抛光垫,所述抛光部分包含聚合物基质和提高速率的层状颗粒,所述层状颗粒包含第III‑A族或第IV‑A族金属的磷酸盐或砷酸盐,所述抛光垫可有效用于化学机械抛光,尤其是当使用包含在浆料条件下具有正电荷的颗粒的浆料时。

主权项:1.一种用于化学机械抛光的抛光垫,其具有包含聚合物基质和用于提高抛光速率的层状颗粒的抛光部分,所述层状颗粒包括具有式MHYO42nH2O的材料,其中M是Zr+4、Ti+4或Ce+4,Y是P或As,并且n是0、1或2,其中,所述层状颗粒具有分裂成薄片的交替晶体结构。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 具有提高的速率的CMP抛光垫

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