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申请/专利权人：武汉大学
摘要：本发明提供了一种基于数字孪生的半球形结构陀螺仪CMP抛光修正装置。包括：抛光腔，其内设置有置物台；转动机构，设置在置物台上，用于控制固定在转动机构上的被抛光物体进行转动；抛光机构，包括磨石，磨石用于抛光被抛光物体，抛光机构上设置有进液口，进液口用于输送抛光液至磨石与被抛光物体的接触面处；监测组件，包括振动检测单元和粗糙度检测单元，振动检测单元用于检测被抛光物体的振动性，粗糙度检测单元用于检测被抛光物体的粗糙度；数字孪生平台，用于获取监测组件检测到的振动性和粗糙度，并基于振动性和粗糙度对抛光过程进行模拟，基于模拟结果生成控制指令，以调控进液口处抛光液的流速、转动机构的转速及磨石的位置。
主权项：1.一种基于数字孪生的半球形结构陀螺仪CMP抛光修正装置，其特征在于，包括：抛光腔，所述抛光腔内设置有置物台；转动机构，设置在所述置物台上，用于控制固定在转动机构上的被抛光物体进行转动；抛光机构，所述抛光机构包括磨石，所述磨石用于抛光所述被抛光物体，所述抛光机构上设置有进液口，所述进液口用于输送抛光液至所述磨石与所述被抛光物体的接触面处；监测组件，包括振动检测单元和粗糙度检测单元，所述振动检测单元用于检测所述被抛光物体的振动性，所述粗糙度检测单元用于检测所述被抛光物体的粗糙度；数字孪生平台，用于获取监测组件检测到的振动性和粗糙度，并基于所述振动性和粗糙度对所述抛光过程进行模拟，基于模拟结果生成控制指令，以调控所述进液口处抛光液的流速、转动机构的转速及所述磨石的位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉大学 基于数字孪生的半球形结构陀螺仪CMP抛光修正装置
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