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一种垂直腔面激光外延结构 

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申请/专利权人:深圳海芯洋信息科技有限公司

摘要:本发明涉及垂直腔面激光器技术领域,尤其为一种垂直腔面激光外延结构,包括外延片主体,所述外延片主体包括基板、第一单晶薄膜和第二单晶薄膜,所述基板的顶部从下到上依次固定连接有第一单晶薄膜、第二单晶薄膜、第三单晶薄膜、第四单晶薄膜、第五单晶薄膜、第六单晶薄膜、第七单晶薄膜、第八单晶薄膜、第九单晶薄膜、第十单晶薄膜、第十一单晶薄膜和第十二单晶薄膜,本发明中,通过设置的基板对多层单晶体薄膜进行承载,不同单晶体薄膜的厚度和组成成分均不同,因此外延片主体中的砷、镓、磷、铝等元素具有特定比例,按照此比例生产出的外延片良品率较高,可以降低外延片的平均生产成本。

主权项:1.一种垂直腔面激光外延结构,包括外延片主体1,其特征在于:所述外延片主体1包括基板101、第一单晶薄膜102和第二单晶薄膜103,所述基板101的顶部从下到上依次固定连接有第一单晶薄膜102、第二单晶薄膜103、第三单晶薄膜104、第四单晶薄膜105、第五单晶薄膜106、第六单晶薄膜107、第七单晶薄膜108、第八单晶薄膜109、第九单晶薄膜110、第十单晶薄膜111、第十一单晶薄膜112、第十二单晶薄膜113、第十三单晶薄膜114、第十四单晶薄膜115、第十五单晶薄膜116、第十六单晶薄膜117、第十七单晶薄膜118、第十八单晶薄膜119、第十九单晶薄膜120、第二十单晶薄膜121、第二十一单晶薄膜122、第二十二单晶薄膜123、第二十三单晶薄膜124、第二十四单晶薄膜125、第二十五单晶薄膜126、第二十六单晶薄膜127、第二十七单晶薄膜128、第二十八单晶薄膜129、第二十九单晶薄膜130、第三十单晶薄膜131、第三十一单晶薄膜132、第三十二单晶薄膜133、第三十三单晶薄膜134、第三十四单晶薄膜135和第三十五单晶薄膜136;所述基板101的成分为GaAs,所述基板101的比例为0.00%,所述基板101的厚度为5000um,所述基板101的杂质为2%;所述第一单晶薄膜102的成分为AIGaAs,所述第一单晶薄膜102有37个回路,所述第一单晶薄膜102的比例为1090%,所述第一单晶薄膜102的厚度为200um,所述第一单晶薄膜102的杂质为2%;所述第二单晶薄膜103的成分为AIGaAs,所述第二单晶薄膜103有37个回路,所述第二单晶薄膜103的比例为90.00%,所述第二单晶薄膜103的厚度为563um,所述第二单晶薄膜103的杂质为2%;所述第三单晶薄膜104的成分为AIGaAs,所述第三单晶薄膜104有37个回路,所述第三单晶薄膜104的比例为9010%,所述第三单晶薄膜104的厚度为200um,所述第三单晶薄膜104的杂质为2%;所述第四单晶薄膜105的成分为AIGaAs,所述第四单晶薄膜105有37个回路,所述第四单晶薄膜105的比例为10.00%,所述第四单晶薄膜105的厚度为477um,所述第四单晶薄膜105的杂质为2%;所述第五单晶薄膜106的成分为AIGaAs,所述第五单晶薄膜106的比例为1085%,所述第五单晶薄膜106的厚度为200um,所述第五单晶薄膜106的杂质为2%;所述第六单晶薄膜107的成分为AIGaAs,所述第六单晶薄膜107的比例为85.00%,所述第六单晶薄膜107的厚度为649um,所述第六单晶薄膜107的杂质为2%;所述第七单晶薄膜108的成分为AIGaAs,所述第七单晶薄膜108的比例为8560%,所述第七单晶薄膜108的厚度为100um,所述第七单晶薄膜108的杂质为0.5%;所述第八单晶薄膜109的成分为AIGaAs,所述第八单晶薄膜109的比例为6020%,所述第八单晶薄膜109的厚度为996.3um,所述第八单晶薄膜109的杂质为0.1%;所述第九单晶薄膜110的成分为AIGaAs,所述第九单晶薄膜110的比例为20.00%,所述第九单晶薄膜110的厚度为75um;所述第十单晶薄膜111的成分为AIGaAs,所述第十单晶薄膜111的比例为20.00%,所述第十单晶薄膜111的厚度为75um;所述第十一单晶薄膜112的成分为InGaAs,所述第十一单晶薄膜112的比例为13.00%,所述第十一单晶薄膜112的厚度为70um;所述第十二单晶薄膜113的成分为AIGaAs,所述第十二单晶薄膜113的比例为20.00%,所述第十二单晶薄膜113的厚度为80um;所述第十三单晶薄膜114的成分为INGaAs,所述第十三单晶薄膜114的比例为13.00%,所述第十三单晶薄膜114的厚度为70um;所述第十四单晶薄膜115的成分为AIGaAs,所述第十四单晶薄膜115的比例为20.00%,所述第十四单晶薄膜115的厚度为80um;所述第十五单晶薄膜116的成分为InGaAs,所述第十五单晶薄膜116的比例为13.00%,所述第十五单晶薄膜116的厚度为70um;所述第十六单晶薄膜117的成分为AIGaAs,所述第十六单晶薄膜117的比例为20.00%,所述第十六单晶薄膜117的厚度为150um;所述第十七单晶薄膜118的成分为AIGaAs,所述第十七单晶薄膜118的比例为2060%,所述第十七单晶薄膜118的厚度为996.3um;所述第十八单晶薄膜119的成分为AIGaAs,所述第十八单晶薄膜119的比例为6090%,所述第十八单晶薄膜119的厚度为100um;所述第十九单晶薄膜120的成分为AIGaAs,所述第十九单晶薄膜120的比例为6090%,所述第十九单晶薄膜120的厚度为600um;所述第二十单晶薄膜121的成分为AIGaAs,所述第二十单晶薄膜121的比例为98.00%,所述第二十单晶薄膜121的厚度为200um,所述第二十单晶薄膜121的杂质为2%;所述第二十一单晶薄膜122的成分为AIGaAs,所述第二十一单晶薄膜122的比例为9010%,所述第二十一单晶薄膜122的厚度为200um,所述第二十一单晶薄膜122的杂质为2%;所述第二十二单晶薄膜123的成分为AIGaAs,所述第二十二单晶薄膜123的比例为10.00%,所述第二十二单晶薄膜123的厚度为270um,所述第二十二单晶薄膜123的杂质为0.7%;所述第二十三单晶薄膜124的成分为AIGaAs,所述第二十三单晶薄膜124的比例为1090%,所述第二十三单晶薄膜124的厚度为200um,所述第二十三单晶薄膜124的杂质为2%;所述第二十四单晶薄膜125的成分为AIGaAs,所述第二十四单晶薄膜125的比例为90.00%,所述第二十四单晶薄膜125的厚度为563um,所述第二十四单晶薄膜125的杂质为1%;所述第二十五单晶薄膜126的成分为AIGaAs,所述第二十五单晶薄膜126的比例为9010%,所述第二十五单晶薄膜126的厚度为200um,所述第二十五单晶薄膜126的杂质为4%;所述第二十六单晶薄膜127的成分为AIGaAs,所述第二十六单晶薄膜127有9个回路,所述第二十六单晶薄膜127的比例为10.00%,所述第二十六单晶薄膜127的厚度为477um,所述第二十六单晶薄膜127的杂质为1%;所述第二十七单晶薄膜128的成分为AIGaAs,所述第二十七单晶薄膜128有9个回路,所述第二十七单晶薄膜128的比例为1090%,所述第二十七单晶薄膜128的厚度为200um,所述第二十七单晶薄膜128的杂质为2%;所述第二十八单晶薄膜129的成分为AIGaAs,所述第二十八单晶薄膜129有9个回路,所述第二十八单晶薄膜129的比例为90.00%,所述第二十八单晶薄膜129的厚度为563um,所述第二十八单晶薄膜129的杂质为2%;所述第二十九单晶薄膜130的成分为AIGaAs,所述第二十九单晶薄膜130有9个回路,所述第二十九单晶薄膜130的比例为9010%,所述第二十九单晶薄膜130的厚度为200um,所述第二十九单晶薄膜130的杂质为4%;所述第三十单晶薄膜131的成分为AIGaAs,所述第三十单晶薄膜131有6个回路,所述第三十单晶薄膜131的比例为10.00%,所述第三十单晶薄膜131的厚度为477um,所述第三十单晶薄膜131的杂质为2%;所述第三十一单晶薄膜132的成分为AIGaAs,所述第三十一单晶薄膜132有6个回路,所述第三十一单晶薄膜132的比例为1090%,所述第三十一单晶薄膜132的厚度为200um,所述第三十一单晶薄膜132的杂质为3%;所述第三十二单晶薄膜133的成分为AIGaAs,所述第三十二单晶薄膜133有6个回路,所述第三十二单晶薄膜133的比例为90.00%,所述第三十二单晶薄膜133的厚度为563um,所述第三十二单晶薄膜133的杂质为3%;所述第三十三单晶薄膜134的成分为AIGaAs,所述第三十三单晶薄膜134有6个回路,所述第三十三单晶薄膜134的比例为9010%,所述第三十三单晶薄膜134的厚度为200um,所述第三十三单晶薄膜134的杂质为6%;所述第三十四单晶薄膜135的成分为GaAs,所述第三十四单晶薄膜135的比例为0.00%,所述第三十四单晶薄膜135的厚度为1250um,所述第三十四单晶薄膜135的杂质为10%;所述第三十五单晶薄膜136的成分为GaAs,所述第三十五单晶薄膜136的比例为0.00%,所述第三十五单晶薄膜136的厚度为622um,所述第三十五单晶薄膜136的杂质为50%。

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