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申请/专利权人：比亚迪股份有限公司
摘要：一种热发射器及其制造方法和应用，热发射器包括基底层、薄膜层、发射层和保护层；薄膜层设置在基底层上；发射层设置在薄膜层背向基底层的一侧；保护层覆盖在发射层上，发射层的横截面为圆形或方形，发射层的横截面为圆形时的半径R1满足：200nm≤R1≤2000nm,发射层的横截面为方形时的边长L1满足：400nm≤L1≤4000nm。本申请提供的热发射器的发射层的尺寸可以在上述范围内调整，从而满足发射波段可调节的效果，提升器件的实际应用潜力。
主权项：1.一种热发射器，其特征在于，包括：基底层；薄膜层，设置在所述基底层上；发射层，设置在所述薄膜层背向所述基底层的一侧；保护层，覆盖在所述发射层上；所述发射层的横截面为圆形或方形，所述发射层的横截面为圆形时的半径R1满足：200nm≤R1≤2000nm，所述发射层的横截面为方形时的边长L1满足：400nm≤L1≤4000nm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 比亚迪股份有限公司 热发射器及其制造方法和应用
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