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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：提供了用于半导体器件的布局校正方法以及使用该布局校正方法的掩模制造方法。布局校正方法包括：接收至少包括目标层和参考层的设计布局；检测目标层中构成目标图案的目标边缘，并检测参考层中构成参考图案的参考边缘；在与三个或更多个参考边缘相交的目标边缘上的与参考图案之间的空间交叉的区段中确定分割点；生成分段，其中，生成分段包括基于分割点来分割与三个或更多个参考边缘相交的目标边缘；在分段当中的与参考图案相交的分段上的与该参考图案交叉的区段的中间点处设置评估点；通过将在评估点处测量的特征输入到布局校正模型来确定其上设置有评估点的分段的移动量；以及通过基于移动量移动其上设置有评估点的分段来生成经校正的布局。
主权项：1.一种用于半导体器件的布局校正方法，所述布局校正方法包括：接收至少包括目标层和参考层的设计布局；检测所述目标层中构成目标图案的目标边缘，并检测所述参考层中构成参考图案的参考边缘；在所述目标边缘当中的与三个或更多个参考边缘相交的目标边缘上的与参考图案之间的空间交叉的区段中确定分割点；生成分段，其中，所述生成分段包括基于所述分割点来分割所述与三个或更多个参考边缘相交的目标边缘；在所述分段当中的与参考图案相交的分段上的与该参考图案交叉的区段的中间点处设置评估点；通过将在所述评估点处测量的特征输入到布局校正模型来确定其上设置有评估点的分段各自的移动量；以及通过基于所述移动量移动所述其上设置有评估点的分段来生成经校正的布局。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 布局校正方法以及使用该布局校正方法的掩模制造方法
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