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激光投射模组 

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申请/专利权人:嘉兴驭光光电科技有限公司

摘要:本申请公开了一种激光投射模组,其包括激光光源和衍射光学元件,其中,激光投射模组具有第一工作模式和第二工作模式,在第一工作模式下,来自激光光源的激光光束以第一入射状态照射衍射光学元件,并且衍射光学元件投射出第一光场,第一光场至少包括图案化的光场;在第二工作模式下,来自激光光源的激光光束以不同于第一入射状态的第二入射状态照射衍射光学元件,并且衍射光学元件投射出第二光场,第二光场包括匀光光场。根据本发明实施例,提供了一种具有不同工作模式的激光投射模组,其将投射图案化光场和投射匀光光场的功能集于一身。

主权项:1.一种激光投射模组,包括:激光光源;和单个衍射光学元件,所述衍射光学元件在来自所述激光光源的激光光束的照射下在目标投射平面上投射出预定的光场,其中,所述激光投射模组具有第一工作模式和第二工作模式并且配置为能够通过改变入射到所述衍射光学元件上的激光光束的入射状态在所述第一工作模式和所述第二工作模式之间切换,在所述第一工作模式下,来自所述激光光源的激光光束以第一入射状态照射所述衍射光学元件,并且所述衍射光学元件在所述目标投射平面上投射出第一光场,所述第一光场至少包括图案化的光场;在所述第二工作模式下,来自所述激光光源的激光光束以不同于所述第一入射状态的第二入射状态照射所述衍射光学元件,其中照射到所述衍射光学元件上相同的点上的光的入射状态变化了,并且所述衍射光学元件在所述目标投射平面上投射出第二光场,所述第二光场包括匀光光场;其中所述单个衍射光学元件配置为根据所述第一光场设计而成。

全文数据:

权利要求:

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