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申请/专利权人:无锡卓海科技股份有限公司
摘要:本发明公开一种预定位装置的改造方法、改造装置及电子设备,预定位装置包括光源、图像传感器和硅光传感器,该方法包括:对光源进行供电电压和光源位置调整,并对图像传感器的数值化阈值进行调整;基于图像传感器的光分布信号识别晶圆状态;晶圆状态包括无晶圆状态、透明晶圆状态和非透明晶圆状态;根据晶圆状态调整光强信号通路;其中,光强信号通路包括采样信号输出通路和仿真信号输出通路。本发明通过识别晶圆状态,调整预定位装置的配置参数,并对应切换采样信号输出通路和仿真信号输出通路,使预定位装置能够兼容不同类型晶圆的使用场景,改造方案简单,成本低,提高设备的使用价值和市场价值。
主权项:1.一种预定位装置的改造方法,所述预定位装置用于对半导体研磨设备中的晶圆进行定位检测,所述预定位装置包括光源、图像传感器和硅光传感器,其特征在于,所述方法包括:对所述光源进行供电电压和光源位置调整,并对所述图像传感器的数值化阈值进行调整;基于所述图像传感器的光分布信号识别晶圆状态;所述晶圆状态包括无晶圆状态、透明晶圆状态和非透明晶圆状态;根据所述晶圆状态调整光强信号通路;其中,所述光强信号通路包括采样信号输出通路和仿真信号输出通路;所述基于所述图像传感器的光分布信号识别晶圆状态,包括:获取所述光分布信号在单个帧周期内的边沿信号;根据所述边沿信号的位置和数量识别所述晶圆状态;所述根据所述边沿信号的位置和数量识别所述晶圆状态,包括:获取所述单个帧周期内的预设晶圆边缘位置;基于所述预设晶圆边缘位置配置第一边沿基准线和第二边沿基准线;在所述边沿信号出现在所述第一边沿基准线之前,且所述边沿信号的数量等于1时,将所述晶圆状态确定为所述无晶圆状态;在所述边沿信号出现在所述第一边沿基准线之后,且所述边沿信号的数量等于1时,将所述晶圆状态确定为所述非透明晶圆状态;在所述边沿信号的数量大于1时,将所述晶圆状态确定为所述透明晶圆状态。
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