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申请/专利权人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
摘要：本发明涉及一种膜色均匀和膜厚均一性良好的薄片APCVD成膜加工方法，所属硅片加工技术领域，APCVD设备有三个喷头，用于调整硅烷与氧气的比例，托盘的行进速度制备二氧化硅膜。包括如下操作步骤：第一步：以三喷头同时开启，设定托盘速度，在同一硅烷流量下进行成膜，测试膜厚。第二步：换算2个喷头时的托盘速度，按照3个喷头成膜的厚度及托盘速度进行换算。第三步：选择连续的2个喷头呈打开状态，另一个喷头呈闭合状态。第四步：设置不同的硅烷流量配比，氧气流量按照硅烷与氧气的比例进行设置。第五步：选择不同的配比进行加工，成膜后目检硅片双面状态，及测量膜厚和均一性。有效提高膜面外观良率，降低硅烷及氧气的成本。
主权项：1.一种膜色均匀和膜厚均一性良好的薄片APCVD成膜加工方法，APCVD设备有三个喷头，用于调整硅烷与氧气的比例，托盘的行进速度制备二氧化硅膜；其特征在于包括如下操作步骤：第一步：以三喷头同时开启，设定托盘速度，在同一硅烷流量下进行成膜，测试膜厚；第二步：换算2个喷头时的托盘速度，按照3个喷头成膜的厚度及托盘速度进行换算；第三步：选择连续的2个喷头呈打开状态，另一个喷头呈闭合状态；第四步：设置不同的硅烷流量配比，氧气流量按照硅烷与氧气的比例进行设置；第五步：选择不同的配比进行加工，成膜后目检硅片双面状态，及测量膜厚和均一性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 膜色均匀和膜厚均一性良好的薄片APCVD成膜加工方法
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