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申请/专利权人：宁波恒普技术股份有限公司
摘要：本发明公开一种APCVD设备的晶圆吸附加热装置，涉及常压化学沉积技术领域，包括壳体；壳体的底部敞口设置；真空吸附系统包括真空发生器；运动机构包括真空发生器固定环和导向环；导向环设置于真空发生器固定环的周围，真空发生器固定环设置于真空发生器的周围；加热器组件设置于壳体的底部。本发明中的APCVD设备的晶圆吸附加热装置，倒吸式吸附晶圆，可有效降低灰尘等杂质对晶圆的污染；运动机构可带动真空发生器和真空发生器固定环上下运动，降低了真空发生器及真空发生器固定环的维护难度，提高了真空发生器及真空发生器固定环清理的便捷性，提高了设备可维护性，降低了后期维护保养成本。
主权项：1.一种APCVD设备的晶圆吸附加热装置，其特征在于，包括壳体、加热器组件、真空吸附系统和运动机构；所述壳体的底部敞口设置；所述真空吸附系统包括真空发生器；所述运动机构包括真空发生器固定环和导向环；所述导向环设置于所述真空发生器固定环的周围，所述真空发生器固定环设置于所述真空发生器的周围；所述加热器组件设置于所述壳体的底部并位于所述真空发生器的上方。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 宁波恒普技术股份有限公司 一种APCVD设备的晶圆吸附加热装置
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