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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种轴瓦减磨层的加工工艺
    一种轴瓦减磨层的加工工艺_中原内配集团轴瓦股份有限公司_202510339558.0
    本发明属于轴瓦加工技术领域，具体地涉及一种轴瓦减磨层的加工工艺，包括以下步骤：1)溅射前处理：包括超声波粗洗、超声波精洗、纯水喷淋、纯水鼓泡粗漂洗、第一次超声波漂洗、第一纯水鼓泡精漂洗、第一次风干和第一次烘干处理；2)溅射加工：先溅射一层镍...
    2025-06-20
  • 一种高强度涂层合金钻头
    一种高强度涂层合金钻头_方大控股有限公司_202510641968.0
    本发明涉及钻头技术领域，具体涉及一种高强度涂层合金钻头。该钻头采用多层复合涂层结构，包括铬钴共溅射沉积的过渡层和等离子体增强化学气相沉积的类金刚石涂层。关键工艺在于：先通过铬靶和钴靶共溅射在基体表面形成过渡层，再在丙烷气氛下进行750‑85...
    2025-06-20
  • 一种应用于流化床式硅烷沉积炉的气体外循环系统
    一种应用于流化床式硅烷沉积炉的气体外循环系统_江西力信达高新装备有限公司_202510623487.7
    本发明涉及新硅碳沉积设备领域，尤其涉及一种应用于流化床式硅烷沉积炉的气体外循环系统，包括有支架、柱式流化床、三通管、承载架、冷却器、加压器、加热器、通气管、排气管和注气管；支架安装有柱式流化床；柱式流化床连通有三通管；支架设置有承载架；承载...
    2025-06-20
  • 一种基于富Te靶材的高质量GeTe薄膜及其制备方法
    一种基于富Te靶材的高质量GeTe薄膜及其制备方法_湖北九峰山实验室_202510191272.2
    本发明提供一种基于富Te靶材的高质量GeTe薄膜及其制备方法，上述制备方法包括以下步骤：S1：采用湿法清洗工艺对Si衬底进行清洗；S2：在Si衬底上沉积SiN中间层，得到Si/SiN结构；S3：采用富Te的GeTe1+x
    2025-06-20
  • 一种耐高温硫、氯腐蚀及耐磨损的金属陶瓷涂层及其应用
    一种耐高温硫、氯腐蚀及耐磨损的金属陶瓷涂层及其应用_烟台龙源电力技术股份有限公司_202310277857.7
    本发明提供一种耐高温硫、氯腐蚀及耐磨损的金属陶瓷涂层及其制备方法，涂层包括基体粘结相、陶瓷相及金属间化合物。该金属陶瓷涂层包含基体粘结相、陶瓷相和金属间化合物。基体粘结相为镍基合金相，所述陶瓷相主要为TiN，所述金属间化合物包括TiNi。本...
    2025-06-20
  • 一种伞具取放模组及上下料机构
    一种伞具取放模组及上下料机构_东莞市德派精密机械有限公司_202411423293.4
    本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是指一种伞具取放模组及设有该伞具取放模组的上下料机构，该伞具取放模组包括支撑件、旋转件、旋转驱动模组、第一拾取组件以及第二拾取组件，旋转件转动设置于支撑件，旋转驱动模组用于驱动旋转件转动，第一拾取组件与第二拾...
    2025-06-20
  • 用于防镀膜遮掩对位标的治具
    用于防镀膜遮掩对位标的治具_信利光电股份有限公司_202323595131.2
    本实用新型公开了一种用于防镀膜遮掩对位标的治具，包括：治具本体及遮挡组件，治具本体上设置有限位区，限位区用于对基板进行限位；遮挡组件设置于治具本体上，遮挡组件位于限位区的侧边，遮挡组件包括遮挡块，限位区上放置有基板时，遮挡块位于基板对位标的...
    2025-06-20
  • 一种针对低饱和蒸气压前驱体源的原子层沉积供气系统
    一种针对低饱和蒸气压前驱体源的原子层沉积供气系统_江苏迈纳德微纳技术有限公司_202510283859.6
    本发明公开了一种针对低饱和蒸气压前驱体源的原子层沉积供气系统，属于原子层沉积反应设备技术领域。该系统通过将质量流量控制器与原有的进气气动阀相结合，实现了对沉积过程中前驱体源瓶中气体量的精确控制；并通过压力计实时监测前驱体源瓶内部的压力，实现...
    2025-06-20
  • 氧化物半导体薄膜、薄膜半导体装置及其制造方法、以及溅射靶及其制造方法
    氧化物半导体薄膜、薄膜半导体装置及其制造方法、以及溅射靶及其制造方法_株式会社爱发科_202411834529.3
    [课题]本发明提供一种能够实现高迁移率的活性层的薄膜晶体管的氧化物半导体薄膜及使用该氧化物半导体薄膜的薄膜半导体装置及其制造方法，另外，提供一种能够用于形成上述氧化物半导体薄膜的溅射靶及其制造方法。[解决课题的手段]本发明提供一种氧化物半导...
    2025-06-20
  • 一种可提高溅射效率的表面氧化装置及方法
    一种可提高溅射效率的表面氧化装置及方法_上海哈呐技术装备有限公司_202510293614.1
    本发明涉及‌磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种可提高溅射效率的表面氧化装置及方法，包括控制箱，还包括旋转镀膜组件，包括转动安装在镀膜箱中心处放置架，放置架上等角度放置有多个基材；溅射机构，包括固定安装在镀膜箱两侧的溅射箱，溅射箱中转动安装有...
    2025-06-20
  • 用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法
    用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法_应用材料公司_202180039228.X
    描述了一种用于蒸发源的温度控制遮蔽件。温度控制遮蔽件被配置成提供预加热区或后冷却区。
    2025-06-20
  • 一种MPCVD微波谐振装置
    一种MPCVD微波谐振装置_成都腾六光电有限公司_202422177587.5
    本实用新型公开了一种MPCVD微波谐振装置，涉及微波谐振技术领域，包括第一圆柱形外壳以及位于第一圆柱形外壳内部的第二圆柱形外壳，所述第一圆柱形外壳和第二圆柱形外壳之间具有微波通道，所述第一圆柱形外壳顶部安装有微波发生器；所述第二圆柱形外壳的...
    2025-06-20
  • 汽化器压力监控系统及汽化器系统
    汽化器压力监控系统及汽化器系统_盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司_202311722863.5
    本发明提供一种汽化器压力监控系统及汽化器系统，其中监控系统包括设置在汽化器内部的气体流路上检测所述气体流路中的气体压力的内部压力传感器、设置在所述气体流路的气体输出端处检测所述气体输出端处气体压力的第三压力传感器以及监控所述汽化器各部的压力...
    2025-06-20
  • 一种杆塔镀锌装置
    一种杆塔镀锌装置_江苏玖泰电力实业有限公司_202422468158.3
    本实用新型提供了一种杆塔镀锌装置，涉及杆塔生产技术领域，包括：镀锌池，镀锌池顶部固定连接有支撑架，支撑架上分设有支架。该种装置通过送料组件将杆塔送入镀锌池中进行镀锌，镀锌完毕后再将杆塔从镀锌池中引上，再配合上下料组件将杆塔不断到放置架上，并...
    2025-06-20
  • 一种金刚石材料制备装置及其制备方法
    一种金刚石材料制备装置及其制备方法_河南新源超硬材料有限公司_202410881168.1
    本发明属于金刚石材料制备技术领域，具体的说是一种金刚石材料制备装置及其制备方法，制备装置包括制备反应器和电磁输入组件，所述制备反应器的侧边固定安装有第二抽真空管和第二甲烷输入口，所述制备反应器的外侧固定安装有预热反应器，所述预热反应器和制备...
    2025-06-20
  • 一种耐1000℃的金属/氮化物双层涂层及其制备方法和应用
    一种耐1000℃的金属/氮化物双层涂层及其制备方法和应用_上海大学_202510351352.X
    本发明涉及一种耐1000℃的金属/氮化物双层涂层及其制备方法和应用，所述金属/氮化物双层涂层，包括沿基体依次生长的金属中间层和氮化物涂层，所述氮化物涂层(3)由非晶SixAlyCrz
    2025-06-20
  • 一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置及其方法
    一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置及其方法_上海富乐华半导体科技有限公司_202510254825.4
    本发明公开了一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置及其方法。一种氮化铝陶瓷表面溅射镀铜的装置，包括一磁控溅射装置；磁控溅射装置包括真空箱以及放置在真空箱内的圆筒形挂架，圆筒形挂架上设置有氮化铝陶瓷板安装位，圆筒形挂架连接驱动机构；磁控溅射装置还包...
    2025-06-20
  • 一种高刚性基片镀膜载板
    一种高刚性基片镀膜载板_福建金石能源有限公司_202421911308.7
    本实用新型公开了一种高刚性基片镀膜载板，包括金属丝、两组平行设置的C型钢非传送边和不锈钢传送边组成的矩形边框和缓冲弹簧板，所述金属丝一端固定压紧在C型钢非传送边上，另一端通过金属丝张紧结构安装在另一边C型钢非传送边上，所述金属丝张紧结构包括...
    2025-06-20
  • 一种节能型双峰温度镀锡设备
    一种节能型双峰温度镀锡设备_江西浩百电子材料有限公司_202510297498.0
    本发明涉及镀锡设备领域，尤其涉及一种节能型双峰温度镀锡设备。包括有支架、镀锡炉和加热器等；支架上固接有镀锡炉；镀锡炉内固接有若干个加热器。本发明实现了通过将加入镀锡炉内的惰性气体分为两个流动通道，使得惰性气体不仅能够对镀锡炉内的锡液进行保护...
    2025-06-20
  • 高通量连续型粉体原子层沉积设备
    高通量连续型粉体原子层沉积设备_中科艾科米(北京)科技有限公司_202510267081.X
    本发明的高通量连续型粉体原子层沉积设备，包括粉料自动上料系统、第一反应腔、第二反应腔、泵送系统、前驱体及载气输送系统、加热系统及控制系统，还包括：与第一反应腔连通的第一缓存腔，以对落入第一反应腔的粉料预加热；及与第二反应腔连通的第二缓存腔，...
    2025-06-20
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