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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种金纳米薄膜非线性吸收系数和非线性折射率的动态调控方法
    一种金纳米薄膜非线性吸收系数和非线性折射率的动态调控方法_吉林大学_202410995121.8
    本发明公开了一种金纳米薄膜非线性吸收系数和非线性折射率的动态调控方法，属于非线性光学技术领域，该方法是利用物理气相沉积技术在石英玻璃片上蒸镀一层金纳米薄膜，在金纳米薄膜两端连接金属导线电极，并接入直流电源，构成电回路；通过改变直流电源的电压...
    2025-07-31
  • 一种PECVD真空镀膜设备及真空镀膜腔室的降温方法
    一种PECVD真空镀膜设备及真空镀膜腔室的降温方法_福建金石能源有限公司_202510772141.3
    本发明属于半导体设备降温技术领域，具体涉及一种PECVD真空镀膜设备及真空镀膜腔室的降温方法，打开进气阀门使得导热气体通入到所述腔体内，控制腔体内的气压值设定在500pa~800pa，利用在该压力区间的导热气体对腔室进行降温，相比于自然水冷...
    2025-07-31
  • 真空处理装置、静电吸盘和运送辊
    真空处理装置、静电吸盘和运送辊_株式会社爱发科_202510476778.8
    本发明的一个方式的真空处理装置具有真空腔室；支承体，其具有基底部和表面层，所述基底部配置在所述真空腔室内且由导电体构成，所述表面层由电介质构成且覆盖所述基底部的表面，所述表面层具有对作为处理对象的基材进行静电吸附的支承面；以及表面处理单元，...
    2025-07-31
  • 一种可变尺寸的高功率微波等离子体化学气相沉积设备偏压样品台
    一种可变尺寸的高功率微波等离子体化学气相沉积设备偏压样品台_中国科学院金属研究所_202111424381.2
    本发明金刚石膜生长领域，尤其涉及一种可变尺寸的高功率微波等离子体化学气相沉积设备偏压样品台。该样品台的基片放置在钼台的顶部凹槽内，钼台的底部中心沿竖向安装钼螺栓，上下相对水平设置的样品台支座、样品台陶瓷板，与左右相对设置的左L型立板、右L型...
    2025-07-31
  • 一种真空处理设备
    一种真空处理设备_光驰科技(上海)有限公司_202510584026.3
    本发明属于真空处理技术领域，公开了一种真空处理设备，第一装载架能够装载多个工件，第一装载架能整体置入或离开第一腔室；搬送机构设于第一腔室内，搬送机构能在第一腔室和第二腔室之间搬送工件，并在搬送工件过程中选择性地带动工件旋转。通过第一装载架能...
    2025-07-31
  • 一种提高柔性ITO膜电阻稳定性的镀膜方法
    一种提高柔性ITO膜电阻稳定性的镀膜方法_安阳嵩阳光电子材料有限公司_202510583742.X
    本发明提供一种提高柔性ITO膜电阻稳定性的镀膜方法，属于镀膜技术领域，包括以下步骤：（1）将基材膜卷装入真空镀膜设备腔室内，调节真空镀膜设备腔室内的真空度；（2）对基材膜卷进行放卷，调节真空镀膜设备腔室内的温度对膜材进行加热除气；（3）除气...
    2025-07-31
  • 用于小口径金属管内壁涂层制备的电爆喷涂装置
    用于小口径金属管内壁涂层制备的电爆喷涂装置_兰州理工大学_202510861012.1
    本发明提供了一种用于小口径金属管内壁涂层制备的电爆喷涂装置，涉及电爆喷涂领域，其包括低压导电管，其连接于电容器的低压端；金属管驱动机构，用于驱动金属管沿低压导电管内部轴向移动；金属管驱动机构上设置有低压电极；高压导电管，其连接于电容器的高压...
    2025-07-31
  • 一种制备高定向二硫化钼薄膜的方法
    一种制备高定向二硫化钼薄膜的方法_云南师范大学_202410620263.6
    本发明涉及二硫化钼薄膜制备技术领域，特别是基于一种制备高定向二硫化钼薄膜的方法，包括以下步骤：清洗衬底；将衬底的抛光面朝下扣于石英舟上；称取氧化钼及硫粉放在石英舟中，分别将装有硫粉、氧化钼、衬底的三个石英舟放在管式炉内依次排布的第一温区、第...
    2025-07-31
  • 一种在镀镍陶瓷覆铜基板表面化学镀银的方法
    一种在镀镍陶瓷覆铜基板表面化学镀银的方法_江苏富乐华半导体科技股份有限公司_202510797691.0
    本发明公开了一种在镀镍陶瓷覆铜基板表面化学镀银的方法，涉及金属表面处理技术领域；S1：将硝酸、咪唑、表面活性剂依次加入去离子水中混合均匀，得到活化剂；S2：将陶瓷覆铜基板预处理后，化学镀镍处理，清洗烘干，得到镀镍陶瓷基板；S3：将镀镍陶瓷基...
    2025-07-31
  • 一种化学气相沉积设备
    一种化学气相沉积设备_光驰半导体技术(上海)有限公司_202510596832.2
    本发明属于真空镀膜技术领域，公开一种化学气相沉积设备。化学气相沉积设备包括真空腔室、旋转组件和加热组件，旋转组件包括驱动件和旋转件，旋转件转动连接于真空腔室的腔壁，旋转件设有穿设孔，穿设孔的顶端开口处设置有衬底载盘；驱动件用于驱动旋转件转动...
    2025-07-31
  • 基于多脉冲的氧化硅薄膜低温原子层沉积方法及薄膜和应用
    基于多脉冲的氧化硅薄膜低温原子层沉积方法及薄膜和应用_中国科学院大连化学物理研究所_202410094197.3
    本发明属于材料科学领域，特别涉及一种基于多脉冲的氧化硅薄膜低温原子层沉积方法。该工艺通过多脉冲的方式可以实现原子层沉积(ALD)SiO2薄膜的精确厚度控制，调节每循环沉积的薄膜厚度(GPC)，降低沉积温度；独特的多脉冲...
    2025-07-31
  • 镀膜装置
    镀膜装置_浙江芯微泰克半导体有限公司_202422305490.8
    本申请涉及一种镀膜装置。镀膜装置包括镀锅、承载圈以及盖板。镀锅包括载环孔。载环孔贯穿镀锅。承载圈位于载环孔内。盖板与承载圈相配合。盖板包括通气开口，通气开口沿盖板的径向贯穿盖板。至少一个通气开口与盖板的边缘相邻。如此设置，外界的空气能够较快...
    2025-07-31
  • 连续型粉体原子层沉积设备
    连续型粉体原子层沉积设备_中科艾科米(北京)科技有限公司_202510486759.3
    本发明提出了一种连续型粉体原子层沉积设备，包括：储料单元；多个依次连通的反应单元；多个进气单元；多个抽气单元；其中，反应单元包括反应腔，反应腔内设置有导流板，粉料与载气体所形成的气固混合物通过导流板形成旋风并进行气固分离。本发明的连续型粉体...
    2025-07-31
  • 成膜装置及搬运方法
    成膜装置及搬运方法_株式会社爱发科_202411207245.1
    本发明涉及成膜装置及搬运方法。成膜装置包括：用于搬运基板的搬运部；用于在真空中对由所述搬运部搬运的所述基板的成膜区域成膜Li金属的成膜部。所述搬运部具备多个辊。所述多个辊之中的至少一个是防皱辊。在露点为‑40℃以下的气氛下测定的所述防皱辊与...
    2025-07-31
  • OLED金属掩膜板开口形貌生产方法
    OLED金属掩膜板开口形貌生产方法_浙江众凌科技有限公司_202411935845.X
    本发明提供了一种OLED金属掩膜板开口形貌生产方法，涉及掩膜板生产的技术领域。OLED金属掩膜板开口形貌生产方法包括以下步骤：掩膜板基板上料，RO纯水清洗掩膜板基板，对清洗后的掩膜板基板进行酸洗；采用刻蚀液对掩膜板基板进行刻蚀，刻蚀液包括4...
    2025-07-31
  • 具有增强的热抑制的原子层沉积钨填充
    具有增强的热抑制的原子层沉积钨填充_朗姆研究公司_202380086462.7
    用钨填充3‑D NAND结构的字线特征的方法包括用三氟化氮(NF3)结合增压气体处理保形钨。NF3处理优先于字线特征的开口，而非字线特征的内部。该处理可抑制后续在已处理表面的沉积。后续沉积选择性地...
    2025-07-31
  • 一种梯度结构的弥散强化高熵合金氮化物陶瓷涂层及其制备方法
    一种梯度结构的弥散强化高熵合金氮化物陶瓷涂层及其制备方法_中国科学院合肥物质科学研究院_202311154927.6
    本发明公开了一种梯度结构的弥散强化高熵合金氮化物陶瓷涂层及其制备方法，是利用多弧离子镀与磁控溅射复合的方法在衬底上依次沉积Cr薄膜与FeCrAlTi薄膜后，再通过在氮气氛围下溅射FeCrAlTiSi靶获得FeCrAlTiSi‑N薄膜。本发明...
    2025-07-31
  • 燃料元件表面渐进分布的碳化硅涂层及其制备方法
    燃料元件表面渐进分布的碳化硅涂层及其制备方法_清华大学_202510421505.3
    本发明提供了一种燃料元件表面渐进分布的碳化硅涂层及其制备方法，所述涂层从外到内包括碳化硅涂层和中间层，所述中间层为碳化硅与石墨的结合层。所述制备方法包括以下步骤：将燃料元件在浸渍剂中浸渍，热解；其中，所述浸渍剂包含聚碳硅烷或其溶液。本发明提...
    2025-07-31
  • 类金刚石碳层的处理方法
    类金刚石碳层的处理方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202410096873.0
    本发明的类金刚石碳层的处理方法包括：在所述类金刚石碳层上涂覆金属氧化物；以及对所述类金刚石碳层及所述金属氧化物进行激光照射处理，所述激光被配置为使所述类金刚石碳层石墨化。该方法简单高效，能够有效改变类金刚石碳层的结构性质，降低类金刚石层的内...
    2025-07-31
  • 一种W-S-Ti-O润滑薄膜及其制备方法和应用
    一种W-S-Ti-O润滑薄膜及其制备方法和应用_中国科学院兰州化学物理研究所_202510854630.3
    本发明提供了一种W‑S‑Ti‑O润滑薄膜及其制备方法和应用，属于空间润滑技术领域。本发明提供了一种W‑S‑Ti‑O润滑薄膜，所述W‑S‑Ti‑O润滑薄膜具有致密非晶结构，由WS2相、WSxO
    2025-07-31
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