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扇出型封装结构及封装方法 

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摘要:本发明提供一种扇出型封装结构及封装方法,扇出型封装结构包括重新布线层、钝化层、半导体芯片、封装层、凹槽、第一金属凸块、第二金属凸块、转接板、堆叠芯片封装体、被动元件及填充层。本发明将多种具有不同功能的芯片整合在一个封装结构中,从而可提高扇出型封装结构的整合性;通过重新布线层、转接板及金属凸块,实现了三维垂直堆叠封装,可有效提高封装结构的集成度,且可有效缩短传导路径,以降低功耗、提高传输速度,增大数据处理量。

主权项:1.一种扇出型封装方法,其特征在于,包括以下步骤:提供支撑衬底,于所述支撑衬底上形成分离层;于所述分离层上形成钝化层,所述钝化层包括与所述分离层相接触的第一面及相对的第二面;提供半导体芯片,所述半导体芯片位于所述钝化层的第二面上,且所述半导体芯片的背面与所述钝化层相键合,所述半导体芯片的正面远离所述钝化层的第二面;采用封装层封装所述钝化层及半导体芯片,且所述封装层显露所述半导体芯片的焊盘;于所述封装层上形成重新布线层,所述重新布线层包括与所述封装层相接触的第一面及相对的第二面,且所述重新布线层与所述半导体芯片的焊盘电连接;于所述重新布线层的第二面上形成第一金属凸块,且所述第一金属凸块与所述重新布线层电连接;提供承载体,并剥离所述支撑衬底,以显露出所述钝化层的第一面;对所述钝化层及封装层进行激光刻蚀,以形成凹槽,且所述凹槽显露所述重新布线层中的金属布线层;于所述凹槽中形成第二金属凸块,且所述第二金属凸块与所述重新布线层电连接;提供转接板,所述转接板位于所述钝化层的第一面上,且所述转接板与所述第二金属凸块电连接;提供堆叠芯片封装体及被动元件,所述堆叠芯片封装体及被动元件位于所述转接板上,且所述堆叠芯片封装体及被动元件均与所述转接板电连接;采用填充层,填充所述堆叠芯片封装体与所述转接板之间的间隙;进行切割,以形成扇出型封装结构。

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