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一种硅片清洗后脱水装置 

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申请/专利权人:徐海腾

摘要:本实用新型公开了一种硅片清洗后脱水装置,包括底板,所述底板的底侧固定安装有两个支撑腿,底板的顶侧固定安装有烘干仓,底板的底侧固定安装有旋转电机,旋转电机的输出端转动贯穿底板和烘干仓并固定安装有转动杆,转动杆的另一端固定连接有放置盒,通过放置盒开设的多个放置槽,多个放置槽能够同时放置多个硅片本体,解决了在硅片本体数量多的时候,烘干速度慢的问题,且通过多个放置槽和多个夹板之间存在的缝隙,能够放置不同厚度的硅片本体,通过设置的旋转电机,旋转电机运行就能够带动转动杆另一端的放置盒转动,就能够将硅片本体表面附着的水分甩干,配合热气烘干,就能将硅片本体表面的水分全部去除干净,取代了传统的人工晾晒法。

主权项:1.一种硅片清洗后脱水装置,包括底板1,其特征在于,所述底板1的底侧固定安装有两个支撑腿2,底板1的顶侧固定安装有烘干仓3,底板1的底侧固定安装有旋转电机15,旋转电机15的输出端转动贯穿底板1和烘干仓3并固定安装有转动杆16,转动杆16的另一端固定连接有放置盒17,放置盒17的底侧内壁开设有多个漏水孔18,放置盒17两侧内壁均开设有多个放置槽19,放置盒17开设有放置孔20,放置孔20与多个放置槽19相连通,放置孔20内活动安装有放置框21,放置框21的相互靠近的两侧均固定安装有多个夹板22,多个夹板22均位于多个放置槽19内,多个夹板22与多个放置槽19之间均夹持有硅片本体28,放置框21上和放置盒17的一侧分别设置有限位组件和固定组件,烘干仓3的外侧设置有加热组件。

全文数据:

权利要求:

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