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申请/专利权人：天津美泰真空技术有限公司
摘要：本实用新型提供了一种用于清洗抛光后TFT基板的浸泡装置，包括架体、架体一侧设置的移动平台、以及架体另一侧设置的浸泡槽；所述移动平台上设有可拆卸的TFT基板承载架，所述架体上对应移动平台和浸泡槽上方的位置设有用于抓取TFT基板承载架的抓取机构；所述抓取机构包括架体上水平设置的移动架、以及移动架上设置的抓取组件，所述移动架上设有用于驱动抓取组件升降的升降组件。本实用新型所述的一种用于清洗抛光后TFT基板的浸泡装置，易于使用和维护，操作简便，可实现对TFT基板的浸泡清洗，且清洗效率高，清洗过程中TFT基板也不易发生损坏，有利于提高TFT基板的生产效率和良品率。
主权项：1.一种用于清洗抛光后TFT基板的浸泡装置，其特征在于：包括架体1、架体1一侧设置的移动平台2、以及架体1另一侧设置的浸泡槽3；所述移动平台2上设有可拆卸的TFT基板承载架5，所述架体1上对应移动平台2和浸泡槽3上方的位置设有用于抓取TFT基板承载架5的抓取机构；所述抓取机构包括架体1上水平设置的移动架8、以及移动架8上设置的抓取组件，所述移动架8上设有用于驱动抓取组件升降的升降组件，移动架8上对应抓取组件下方的位置设有用于定位TFT基板承载架5的定位组件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 天津美泰真空技术有限公司 一种用于清洗抛光后TFT基板的浸泡装置
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