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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：基板处理装置1具备基板保持部2、处理液供给部、加热部5以及液体去除部。基板保持部2将基板9保持为水平状态。处理液供给部将表面张力比IPA高的处理液供给至基板9的上表面91，由此形成覆盖基板9的上表面91的整面的处理液的液膜。加热部5从下表面92的侧加热基板9并使液膜的一部分气化，由此在基板9的上表面91与液膜之间形成气相层。液体去除部去除气相层上的液膜。由此，能抑制液膜非预期性的破损。
主权项：1.一种基板处理装置，用以处理基板，并具备：基板保持部，将基板保持为水平状态；处理液供给部，将表面张力比异丙醇高的处理液供给至所述基板的上表面，由此形成覆盖所述基板的所述上表面的整面的所述处理液的液膜；加热部，从下表面侧加热所述基板并使所述液膜的一部分气化，由此在所述基板的所述上表面与所述液膜之间形成气相层；以及液体去除部，去除所述气相层上的所述液膜，所述处理液的蒸气压比异丙醇的蒸气压高，所述处理液包括顺-1,2-二氯乙烯、三氯甲烷、乙酸甲酯、1,3-二氧戊烷、四氢呋喃、1,1,1-三氯乙烷、四氯甲烷、苯、环己烷、乙腈、三氯乙烯、四氢哌喃、硝酸、1,2-二氯乙烷、1,2-二氯丙烷、氟三硝基甲烷、吡咯啶、丙烯腈、环己烯中的至少一者。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理装置、处理液以及基板处理方法
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