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一种高散热柔性GaN HEMT器件制备方法及高散热柔性GaN HEMT器件 

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申请/专利权人:红与蓝半导体(佛山)有限公司

摘要:本发明提供一种高散热柔性GaNHEMT器件制备方法,包括:在第一衬底上侧形成氮化镓层与势垒层;在衬底上形成若干条绝缘垂直导热柱,导热柱穿透所述氮化镓层与所述势垒层;在势垒层上侧形成氧化铝层,基于所述氧化铝层形成漏极、源极与栅极,形成第一导热层;在第一导热层上形成第一封装层,得到初步HEMT器件;将所述初步HEMT器件转移至第二衬底上;在氮化镓层下侧依次形成绝缘层、第二导热层与柔性衬底层;所述第一导热层、第二导热层与所述绝缘垂直导热柱均相连组成散热系统。本发明还包括对应上述制备方法的高散热柔性GaNHEMT器件。本发明的方案能够实现GaNHEMT器件的全方位散热,提升了器件的工作效率与稳定性。

主权项:1.一种高散热柔性GaNHEMT器件制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1、提供第一衬底,依次在所述第一衬底上侧形成氮化镓层与势垒层;步骤S2、在所述衬底上形成若干条绝缘垂直导热柱,所述绝缘垂直导热柱穿透所述氮化镓层与所述势垒层;步骤S3、在所述势垒层上侧形成氧化铝层,基于所述氧化铝层形成漏极、源极与栅极;步骤S4、在所述漏极、源极与栅极周围形成第一导热层,所述第一导热层与所述导热柱相连接;步骤S5、在所述第一导热层上形成第一封装层,得到初步HEMT器件;步骤S6、提供第二衬底,将所述初步HEMT器件从所述第一衬底上剥离,并转移至第二衬底上,所述第二衬底设置于所述漏极、源极与栅极上侧;步骤S7、在氮化镓层下侧依次形成绝缘层、第二导热层与柔性衬底层,第二导热层与导热柱相连接;其中,所述第一导热层、第二导热层与所述绝缘垂直导热柱组成散热系统,共同实现柔性GaNHEMT器件全面散热。

全文数据:

权利要求:

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