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申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
摘要：本实用新型涉及光刻技术领域，一种反射式极紫外光刻胶检测装置，包括：极紫外光源模块、干涉光束产生模块、光刻胶曝光模块、放气测试系统模块、真空系统模块、隔振系统模块与显影和显影后表征系统模块。首先极紫外光通过分光元件产生多束光，通过聚焦反射镜使多束光发生干涉产生干涉图案，然后将光刻胶放置在光的干涉位置进行曝光，将干涉图案转印到光刻胶上，光刻胶曝光后进行显影，显影后对关键参数进行测量。通过改变干涉角来改变干涉周期；通过放气测试系统获得放气速率和释放气体成分。本检测装置集成度高，可以满足多种场景需求，用于新型极紫外光刻胶材料体系研发。
主权项：1.一种反射式极紫外光刻胶检测装置，其特征在于，包括：极紫外光源模块，用于改变极紫外曝光时间；干涉光束产生模块，用于将所述极紫外光源模块产生的极紫外光分束为多束光；光刻胶曝光模块，用于将所述干涉光束产生模块产生的多束光聚焦干涉在待检测光刻胶上，使干涉图案转印到光刻胶上；显影和显影后表征系统模块，用于对曝光后的光刻胶进行显影，并测量显影后的关键参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种反射式极紫外光刻胶检测装置
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