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申请/专利权人：昂坤视觉(北京)科技有限公司;杭州昂坤半导体设备有限公司
摘要：本发明公开了一种特征样品套刻量测方法、系统、存储介质及设备，所述方法包括：提供一待套刻处理的特征样品；通过预设的成像设备按照不同的聚焦高度分别对所述特征样品进行成像，输出多张特征图像；获取所述特征样品的内外圈高度差数据，根据所述内外圈高度差数据确定所述特征图像的锚点标注形式；根据预设的锚点标注形式，在所述特征图像中标注锚点，并根据所述锚点的中心坐标与锚点轮廓计算所述特征样品的套刻数据。本发明解决了现有技术中因景深限制无法一次清晰成像，采用分时拍摄将存在套刻偏差，如此进行套刻处理将导致套刻精度下降的问题。
主权项：1.一种特征样品套刻量测方法，其特征在于，所述方法包括：提供一待套刻处理的特征样品，所述特征样品在进行套刻处理时其相邻图形之间存在高度差；通过预设的成像设备按照不同的聚焦高度分别对所述特征样品进行成像，输出多张特征图像；获取所述特征样品的内外圈高度差数据，根据所述内外圈高度差数据确定所述特征图像的锚点标注形式；根据预设的锚点标注形式，在所述特征图像中标注锚点，并根据所述锚点的中心坐标与锚点轮廓计算所述特征样品的套刻数据。
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