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一种基于连续域束缚态的硅基发光芯片及其制备方法 

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申请/专利权人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所

摘要:本发明涉及一种基于连续域束缚态的硅基发光芯片及其制备方法,包括硅衬底,二氧化硅绝缘层以及III‑V纳米盘柱结构。本发明具有良好的光致发光特性,器件结构简单,结构纳米级别且易于制作,能实现大规模集成,在解决硅基片上光源方面有着巨大的潜力。

主权项:1.一种基于连续域束缚态的硅基发光芯片,其特征在于:包括硅衬底,二氧化硅绝缘层以及III-V纳米柱结构;所述III-V纳米柱结构包括GaAs下覆盖层、InAs量子点阱层、GaAs上覆盖层;所述III-V纳米柱结构为横轴对称、纵轴对称;所述柱结构为半径变化的圆柱结构,变化间隔为5nm,两个圆柱结构之间的距离为50um。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种基于连续域束缚态的硅基发光芯片及其制备方法

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