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单体、抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法 

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申请/专利权人:信越化学工业株式会社

摘要:本发明涉及单体、抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度,且边缘粗糙度、尺寸变异小,且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料,以及为前述抗蚀剂材料的原料的单体、含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。该课题的解决手段是一种单体,其特征为:以下述通式a‑1M或a‑2M表示。

主权项:1.一种单体,其特征为:以下述通式a-1M或a-2M表示; 式中,RA为氢原子或甲基;X1为单键、亚苯基、亚萘基、或含有酯键或醚键的碳数1~12的连接基团;X2为单键、或碳数1~12的直链状、分支状、或环状的亚烷基,且也可含有选自酯基、醚基、酰胺基、内酯环、磺内酯环、及卤素原子中的1种以上;X3为碳数1~10的直链状、或分支状的亚烷基,且也可具有选自醚基、酯基、芳香族基团、双键、及三键中的1种以上,并具有1~4个氟原子;R1分别独立地为羟基、碳数1~4的直链状、或分支状的烷基、烷氧基、酰氧基、或碘以外的卤素原子;m为1~4的整数,n为0~3的整数;R2~R6分别独立地为也可含有杂原子的碳数1~25的1价烃基;又,R2、R3及R4中的任2个也可互相键结并和它们所键结的硫原子一起形成环。

全文数据:

权利要求:

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