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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：在包括基板、多层反射膜、保护膜、吸收体膜和硬掩模膜的反射掩模坯中，保护膜由含有钌Ru的材料组成，吸收体膜由第一层和第二层或第一层、第二层和第三层组成，第一层具有含有钽Ta且不含氮N的组成，第二层具有含有钽Ta和氮N的组成，第三层具有含有钽Ta、氮N和氧O的组成，和硬掩模膜由含有铬Cr的材料组成。
主权项：1.反射掩模坯，其包括基板、在所述基板的一个主表面上形成并反射曝光光的多层反射膜、在所述多层反射膜上形成并与所述多层反射膜接触的保护膜、在所述保护膜上形成并与所述保护膜接触并吸收曝光光的吸收体膜、和在所述吸收体膜上形成并与所述吸收体膜接触并在所述吸收体膜的干法蚀刻中充当蚀刻掩模的硬掩模膜，所述反射掩模坯是用于利用EUV光作为曝光光的EUV光刻法中的反射掩模的材料，其中，所述保护膜由包含钌Ru的材料组成，和具有不小于2nm且不大于5nm的厚度，所述吸收体膜由包含钽Ta的材料组成，并且从基板侧开始由第一层和第二层，或第一层、第二层和第三层组成，所述第一层具有包含钽Ta且不含氮N的组成，并且具有不小于0.5nm且不大于2nm的厚度，所述第二层具有包含钽Ta和氮N的组成，并且所述组成具有不小于10原子％的氮N含量和不大于5原子％的氧O含量，所述第一层和所述第二层具有不小于50nm且不大于80nm的总厚度，所述第三层具有包含钽Ta、氮N和氧O的组成且具有不大于20nm的厚度，并且所组成具有不小于30原子％且不大于70原子％的氧O含量，和所述硬掩模膜由包含铬Cr的材料组成且具有不小于5nm且不大于20nm的厚度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 反射掩模坯和反射掩模的制造方法
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