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申请/专利权人：大日本印刷株式会社
摘要：本发明的目的在于，提供一种能够通过接近式曝光来实现转印图案的尺寸的微细化及锥角的增大的光掩模。本发明提供一种接近式曝光用光掩模，其是接近式曝光用的光掩模，其具有透明基板、及配置于上述透明基板上的遮光膜，上述遮光膜具有：遮光主部，其形成有大致多边形或大致圆形的开口部；及遮光辅助图案，其配置于上述遮光主部的上述开口部的内侧且与上述遮光主部隔开间隔地形成；上述遮光膜是具有对于曝光的光而使相位偏移180度±45度的相移作用并且上述曝光的光的透射率为1％以上且10％以下的相移膜。
主权项：1.一种接近式曝光用光掩模，其是接近式曝光用的光掩模，所述接近式曝光用光掩模具有透明基板、及配置于所述透明基板上的遮光膜，所述遮光膜具有：遮光主部，其形成有大致多边形或大致圆形的开口部；及遮光辅助图案，其配置于所述遮光主部的所述开口部的内侧且与所述遮光主部隔开间隔地形成；所述遮光膜是具有对于曝光的光使相位偏移180度±45度的相移作用并且所述曝光的光的透射率为1％以上且10％以下的相移膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 大日本印刷株式会社 接近式曝光用光掩模及滤色器的制造方法
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