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申请/专利权人：云南驰宏国际锗业有限公司
摘要：本申请涉及一种锗基底7‑14μm波段DLCAR红外锗窗口片及其制备方法，属于光学材料领域，本申请以单晶锗片为基底，基底的正反面分别镀有正面DLC膜，反面AR膜膜系结构；反面AR膜膜系结构以一面镀好DLC膜的锗片为基底由内至外依次镀制第一层ZnS膜层、第一层Ge膜层、第一层ZnSe膜层、第二层Ge膜层、第二层ZnSe层、第一层YbF3层、第二层ZnS层；本申请制备方法制备得到的红外锗窗口片制作工艺简单，张应力小，膜不容易脱落，在保证透过率≥89％的同时，提高锗窗口片在恶劣环境中的耐用性，有效提高了锗窗口片表面的耐摩擦性能、耐腐蚀性能、耐高温性能和表面硬度，该锗窗口片能通过膜强度环境测试，适合工业生产。
主权项：1.一种锗基底7-14μm波段DLCAR红外锗窗口片，其特征在于，以单晶锗片为基底，基底的正面镀有DLC膜，反面镀有AR膜；AR膜膜系结构为：单晶锗基底0.116H3.091M0.296L0.976M0.699L0.689I0.674H空气；式中，H表示一个λ04光学厚度的ZnS膜层；M表示一个λ04光学厚度的Ge膜层；L表示一个λ04光学厚度的ZnSe膜层；I表示一个λ04光学厚度的YbF3膜层；λ0为中心波长；H、M、L和I前的数字均为膜层的厚度比例系数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 云南驰宏国际锗业有限公司 一种锗基底7-14μm波段DLC/AR红外锗窗口片及其制备方法
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