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申请/专利权人：上海电子信息职业技术学院
摘要：本发明属于材料表面处理技术领域，具体涉及一种材料表面Ni‑DLC涂层及其制备方法。在基体工件表面依次沉积金属Ni层以及Ni‑DLC层，Ni‑DLC层的厚度为0.1～3.0微米。本发明采用电弧离子镀或磁控溅射技术来制备Ni层以及Ni‑DLC层，在制备Ni‑DLC层过程中同时开启热丝或离子源，促进气体的离化，提高等离子体密度和涂层致密度。所制备的Ni‑DLC涂层不仅具有较高的纳米硬度15GPa以上，而且具有较低的摩擦因数，尤其是适用于超低温摩擦领域，在‑40～‑160℃条件下摩擦因数不高于0.1。
主权项：1.一种材料表面Ni-DLC涂层，其特征在于，在基体表面依次沉积金属Ni层以及Ni-DLC层，Ni层的厚度为0.1～0.2微米，Ni-DLC层的厚度为0.3～3.0微米。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海电子信息职业技术学院 一种材料表面Ni-DLC涂层及其制备方法
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