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一种带有C状掺杂区的肖特基隧穿场效应晶体管生物传感器 

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申请/专利权人:西安电子科技大学;西安电子科技大学杭州研究院

摘要:一种带有C状掺杂区的肖特基隧穿场效应晶体管生物传感器,包括水平T形的沟道,水平T形沟道两侧分别设有源极和漏极;所述沟道内靠近源极的一侧设有P型C状重掺杂区,沟道的上下表面均设有栅极介质层,栅极介质层的表面设有栅极,沟道与栅极之间,且栅极介质层近源极的一侧设有生物分子探测腔,源极和沟道形成肖特基接触;水平T形的沟道,使得源极侧的沟道厚度更大,因此增大了肖特基接触的面积,增大了肖特基隧穿的概率;P型C状重掺杂区的引入,大大降低了灵敏度的参考基准;提高了器件的开启电流灵敏度和跨导灵敏度;使用4H‑SiC作为沟道材料,4H‑SiC具有更宽的禁带宽度,相比于传统的Si沟道,降低了4H‑SiC肖特基势垒场效应晶体管SB‑FET的关态电流,降低了传感器的静态功耗;在生物分子检测方面具有更高的灵敏度。

主权项:1.一种带有C状掺杂区的肖特基隧穿场效应晶体管生物传感器,包括水平T形沟道1,水平T形沟道1大头一侧设有源极2,小头一侧设有漏极3;其特征在于:所述水平T形沟道1内靠近源极2的一侧设有P型C状重掺杂区4;水平T形沟道1大头侧与小头侧之间的表面设有栅极介质层5;栅极介质层5的表面设有栅极6,水平T形沟道1与栅极6之间,且栅极介质层5近源极2的一侧设有生物分子探测腔7,源极2和水平T形沟道1形成肖特基接触8。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安电子科技大学 西安电子科技大学杭州研究院 一种带有C状掺杂区的肖特基隧穿场效应晶体管生物传感器

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